Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 100 #9265628 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 100 Photoresist ist ein chemisch verstärktes, negativ arbeitendes Trockenfilmresistsystem, das auf die Bedürfnisse der mikroelektronischen, mikromechanischen und optischen Industrie ausgerichtet ist. Es bietet eine hohe Auflösung und hohe Ausbeute mit geringer Nachbelichtungsverzögerung, überlegener bildgebender Prozessbreite und minimaler Linienbreite und Linienrandrauhigkeit. Der Resist besteht aus zwei verschiedenen Komponenten, dem Harz und dem Entwickler. Das Harz ist typischerweise ein Polymerisat, das eine negative Ladung trägt, mit einem ionischen Bindungsoberflächenaktivierungsadditiv. Diese Kombination hilft dem Photolack, Licht zu absorbieren, was ein latentes Bild erzeugt. In seiner Resistform wird das Harz in einer dünnen Schicht auf einem Substrat, wie einem Wafer, aufgebracht. Bei Belichtung mit Licht einer bestimmten ultravioletten Wellenlänge absorbiert das Harz das Licht und wird zu einer festen Masse, die das nasse Bild ist. Der Entwickler wird dann auf das Nassbild aufgebracht und verbleibt auf den belichteten Bereichen, so dass nur die unbelichteten Bereiche im Entwickler abgedeckt werden. Der Entwickler hilft, die nicht belichteten Abschnitte des Resists zu entfernen, um ein Bild des ursprünglichen Musters zu zeigen. Die Vorteile von BREWER SCIENCE CEE-100 Photoresist sind die Prozessbreite und die geringe Nachbelichtungsverzögerung. Es hat eine hohe Auflösung, mit einer minimalen Merkmalsgröße von 0,5 um und hoher Ausbeute. Es hat eine minimale Linien- und Kantenrauhigkeit und bietet eine hervorragende Bildgebung. Es hat auch eine lange Haltbarkeit und ist relativ einfach zu verarbeiten. Die Prozessbreite ist für die Photolithographie äußerst wichtig, da sie dafür sorgt, dass unabhängig von den Belichtungsbedingungen hochauflösende Bilder erzeugt werden können. CEE 100 Photolack eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Retikelmasken und Schritt- und Abtastmasken, mikroelektromechanische Systeme (MEMS), optische Platten, Logik- und Speicherchips, Dünnschichttransistorrahmen (TFT) und Leistungshalbleiterchips. Es wird auch für hochenergetische Elektronenstrahllithographie, niederenergetische Elektronenstrahllithographie und Flüssigkeitstauchlithographie verwendet. Abschließend ist CEE-100 Photoresist ein ideales Produkt für diejenigen, die hochauflösende Bilder mit minimaler Nachbelichtungsverzögerung suchen, aber auch mit minimaler Linienbreite und Linienrandrauhigkeit. Es eignet sich sowohl für kurzfristige als auch für langfristige Leistungsanforderungen und ist einfach zu verarbeiten. Seine lange Haltbarkeit macht es zu einer idealen Wahl für eine breite Palette von Anwendungen.