Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 100 #9329155 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 100 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die lithographische Verarbeitung, die mit lichtempfindlichen Polymeren Muster auf einem Substrat erzeugt. Das System verwendet eine lichtempfindliche Chemikalie oder Photoresist, die bildempfindlich ist und selektiv Licht ausgesetzt oder gegen Licht blockiert werden kann. Der Photolack wird im allgemeinen in einer dünnen Schicht auf das Substrat aufgebracht und selektiv Licht ausgesetzt, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Anschließend wird der belichtete Photolack weggespült, was das darunterliegende Muster im Substrat offenbart. BREWER SCIENCE CEE-100 setzt dieses Konzept mit einem hochauflösenden, vollfarbigen Druckwerk fort. Durch die Verwendung eines patentierten Designs produziert diese Maschine Muster schneller und mit größerer Genauigkeit als herkömmliche Methoden. Es entfällt auch die Notwendigkeit, Lösungsmittel und andere harte Chemikalien während des Druckprozesses zu verwenden und gleichzeitig komplizierte Designs zu erzeugen. CEE 100 bietet die Möglichkeit, durch den Einsatz einer UV- oder Ultraviolett-Lichtquelle Muster mit höherer Auflösung als bei anderen Photoresist-Systemen zu erzeugen. Diese Lichtquelle erzeugt einen intensiven Lichtstrahl, der vor Erreichen des Substrats durch Masken weiter gefiltert wird. Dadurch wird sichergestellt, dass der Photolack nur in den gewünschten Bereichen belichtet wird, so dass unglaublich detaillierte Muster erzeugt werden können. Darüber hinaus umfasst CEE-100 ein selbstbezogenes optisches Antriebswerkzeug, das sowohl die Substrate als auch die für die Strukturierung verwendeten Masken exakt positionieren kann. Dadurch wird sichergestellt, dass alle Elemente während des Prozesses korrekt ausgerichtet sind. Dieses Asset ermöglicht es Anwendern auch, Muster auf dem Substrat für Mehrschichtanwendungen oder zur weiteren Integration in zusätzliche Verarbeitungsschritte genau zu platzieren. Insgesamt bietet BREWER SCIENCE CEE 100 ein benutzerfreundliches Fotolackmodell zur Erstellung komplexer Muster mit höherer Auflösung als andere Systeme. Seine selbstbezogene optische Antriebsausrüstung neben der UV-Lichtquelle ermöglicht es Benutzern, präzise und schnell Muster auf einem Substrat mit minimalem Einsatz von rauen Chemikalien oder Lösungsmitteln zu produzieren. Dieses System eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen von Leiterplatten bis zur Herstellung mikroelektronischer Bauelemente.