Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 100CB #293620102 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 100CB ist eine fortschrittliche, mehrkomponentige Photoresist-Ausrüstung für eine Reihe von photolithographischen Anwendungen. Photoresists sind Materialien, die typischerweise verwendet werden, um Muster auf Halbleitern, MEMS/NEMS und Displays unter anderen Anwendungen zu entwickeln. BREWER SCIENCE CEE 100 CB ist eine positiv-tonige Lösung auf Epoxidbasis für Photoresist-Anwendungen. Es eignet sich für Niedertemperatur-Photolithographie auf ebenen und 3D-Oberflächen. Zu den Komponenten des Systems gehören ein Novolac-Epoxid, ein Schiff-basisches Amin und ein farbloses Tensid. Das Novolac-Epoxid bietet eine ausgezeichnete Ätzfestigkeit und Photospeed-Stabilität und ermöglicht eine präzise Steuerung von Ätzprofilen. Zusätzlich verhindert CEE 100CB geringe thermische Absorption Oberflächenverzerrung. Das Schiff-Basisamin wird als Photosäure-Generator verwendet, um die Auflösung des Musters weiter zu verbessern. Das farblose Tensid verbessert die Erkennung der belichteten Struktur durch Erhöhung der Photospeed des Resists. Die Lichtempfindlichkeit von CEE 100 CB liegt im Bereich zwischen 230-270 nm, so dass die Einheit mit i-line, G-line und KrF-Belichtungsquellen verwendet werden kann. Zusätzlich kann der Photolack je nach Anwendung mit wässrigen oder lösemittelbasierten Lösungen entwickelt werden. BREWER SCIENCE CEE 100CB ist für eine Vielzahl von hochpräzisen Anwendungen gut geeignet. Es zeichnet sich in Anwendungen wie Halbleitersubstrate, MEMS/NEMS-Herstellung und Display-Teststrukturen. Darüber hinaus ist es aufgrund seiner guten Kantendefinition und seiner hohen Auflösung ideal für lithografische Prozesse mit kleinen Funktionen. Zusammenfassend ist BREWER SCIENCE CEE 100 CB eine Positivton-Resistmaschine, die für photolithographische Anwendungen entwickelt wurde. Seine Komponenten bieten ausgezeichnete Ätzbeständigkeit, Photospeed-Stabilität und Auflösung, während seine Lichtempfindlichkeit es ermöglicht, mit einer Vielzahl von Belichtungsquellen verwendet werden. Diese Eigenschaften kombiniert mit seiner guten Kantendefinition und der Fähigkeit, mit wässrigen oder lösungsmittelbasierten Lösungen zu entwickeln, machen es ideal für eine Vielzahl von hochpräzisen Anwendungen.