Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 100CB #9237990 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 100CB ist eine umfassende Photoresist-Ausrüstung, die speziell für Lithographie-Prozesse entwickelt wurde. Es ist einzigartig nach Blasentechnologie entwickelt, was bedeutet, dass es in hohem Grade in der Lage ist, fortschrittliche Spitzen-nannetische Geräte und fortschrittliche 3D-LP-Strukturen zu produzieren. Es verfügt über eine Photoresist-Chemie, die gleichmäßig mit einer einheitlichen Polymermatrix reagiert hat und robuste Leistung und Stabilität bietet. Darüber hinaus bietet es einen integrierten Post-Exposure-Backprozess und ist einsatzbereit. Dieses System verwendet einen flüssigen Entwickler, der hilft, eine gleichmäßige Entwicklung aufrechtzuerhalten, die überschüssiges Photolackmaterial entfernt und so eine genaue Filmdickenkontrolle ermöglicht. Diese Photoresist-Einheit ist mit einer fortschrittlichen Kontraststeuerung konzipiert, die hilft, einen Film höherer Qualität mit überlegener Auflösung zu produzieren. Diese Maschine hat auch eine hohe Löslichkeit, um eine Bildgebung mit breitem Belichtungsspielraum zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht es eine hohe Auflösungsfähigkeit bis zu 90nm. Dieses Werkzeug ist auch mit einem niedrigen Belichtungsenergiebedarf ausgelegt, der einen geringen Durchsatz und eine verbesserte Ausbeute ermöglicht. Ein weiteres Merkmal von BREWER SCIENCE CEE 100 CB ist die verbesserte Oberflächenplanarität, die durch die Gesamtleistung der Tensidunterdrückungsmittel erzeugt wird. Diese Maßnahme ist insofern vorteilhaft, als sie Verbesserungen der Geräteausbeute bewirken kann. Darüber hinaus ist dieses Gut auch mit mehreren Dielektrika kompatibel und unterstützt mehrere Trockenätzprozesse. Seine Polymermatrix ist so konzipiert, dass die Designs und Bilder nicht abbauen, wenn sie extremen Umgebungen ausgesetzt sind, was zu einer optimalen Filmleistung führt. Das andere Merkmal dieses Modells ist seine Drehzahlvariabilität, die die höchste Gleichmäßigkeit des Photolacks gewährleistet. Es ist auch mit Antireflexionsbeschichtungen ausgelegt, die Reflexionen und Signalverlust reduzieren. Es ist auch in der Lage, sowohl einfache als auch doppelte Musterprozesse zu unterstützen. Darüber hinaus verfügt es über eine gute Registrierungsgenauigkeit, die eine zuverlässige Musterübertragung über große Wafer gewährleistet. Darüber hinaus ist es so formuliert, dass es gegen Metallverunreinigungen aus Aluminium- und Kupferverbindungsleitungen beständig ist und somit eine verbesserte langfristige Zuverlässigkeit der Späne bietet. Abschließend ist CEE 100CB Photoresist Equipment ein fortschrittliches und umfassendes System, das optimale Ergebnisse in Anwendungen wie Nanofabrication und Mikroelektronik erzielen soll. Es ist mit vielen nützlichen Funktionen ausgestattet, wie einheitliche Entwicklung und hohe Auflösungsfähigkeit, die bei der Herstellung von hochwertigen Film mit überlegener Auflösung hilfreich sind. Darüber hinaus bieten seine Polymermatrix- und Antireflexbeschichtungen eine verbesserte langfristige Zuverlässigkeit und verbesserte Leistung in rauen Umgebungen.