Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 1100 Custom #136934 zu verkaufen

ID: 136934
Programmable vacuum hot plates for up to 500 x 500mm substrates PID temperature programmer Maximum temperature: 280°C with 0.1°C resolution (10) User programs for bake temperature, time, and bake method Bake methods: proximity, soft, or hard contact Lift frames: fully programmable controlled loading of substrate onto hotplate Auto cooling cycle to speed cool-down.
BREWER SCIENCE CEE 1100 ist eine kundenspezifische Photolackausrüstung, die für die Herstellung feinerer und komplexerer Strukturen entwickelt wurde. Photoresists sind polymere Materialien, die auf Substrate aufgebracht und dann Licht ausgesetzt werden, um Muster und Strukturen zu erzeugen. Die CEE 1100 besteht aus einer chemischen Formulierung, einem integrierten Belichtungs- und Bildgebungssystem und einem chemischen Entwicklungsprozess. Dieses Produkt wurde speziell für die komplexesten Photolithographie-Workflows entwickelt. Die chemische Formulierung der CEE1100 besteht aus einem Bindemittel, das drei Komponenten enthält; die organische Filmbildung, eine Säureverbindung, die zur Vernetzung beiträgt, und ein Initiator, der die Polymerisation des Bindemittels initiiert. Diese Formulierung ermöglicht eine schnelle Belichtung, hochauflösende Bildgebung und Ätzung sowie eine hohe Empfindlichkeit für einen breiten Wellenlängenbereich. Die integrierte Belichtungs- und Bildgebungseinheit besteht aus einer Strahlungsquelle, die die richtige Lichtart erzeugt, einer Linse, die das Licht fokussiert, und einem Gelenkarm, der eingestellt werden kann, um sicherzustellen, dass das Licht die richtige Intensität hat, um den Fotolack zu belichten. Zusätzlich liefert es ein Bild des Fotolacks nach der Belichtung, so dass der Benutzer die Bildqualität überprüfen und alle notwendigen Anpassungen vor der Entwicklung des Fotolacks vornehmen kann. Schließlich verwendet das chemische Entwicklungsverfahren einen sauren Entwickler, um jeden unbelichteten Photoresist aufzulösen. Dabei bleiben Muster im belichteten Fotolack, die von der Belichtungsmaschine erzeugt wurden. Die Entwickler können für verschiedene Zeit/Temperatur-Protokolle formuliert werden, wodurch das Verfahren mit unterschiedlichen Substraten und Anwendungen kompatibel ist. Zusammenfassend ist BREWER SCIENCE CEE 1100 Benutzerdefiniertes Fotoresist-Tool entwickelt, um Benutzern erweiterte Funktionen in der Photolithographie zur Verfügung zu stellen. Es besteht aus einer innovativen chemischen Formulierung, einer integrierten Belichtungs- und Bildgebungsanlage und einem chemischen Entwicklungsprozess, der schnellere und komplexere Belichtungs-, Bildgebungs- und Ätzprozesse ermöglicht. Mit dem CEE 1100 können Anwender feinere und komplexere Strukturen mit höherer Genauigkeit und Geschwindigkeit herstellen.
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