Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 200 #293751586 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 200 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung, die unvergleichliche Flexibilität, Genauigkeit und Kontrolle während des lithografischen Prozesses bietet. Dieses mit leistungsstarker, aber einfacher integrierter Automatisierung entworfene Photoresist-System macht es einfach, kontrollierte und ausgewogene Belichtungszeiten, Toleranzen und Geometrien zu erreichen. Das Gerät ist mit einer einstellbaren adaptiven Steuerung ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, die Photoresist-Belichtungszeit leicht anzupassen, was eine punktgenaue Genauigkeit ermöglicht. Die automatisierte binäre Logikmaschine ermöglicht es Benutzern, Film mit großer Präzision und Genauigkeit zu registrieren. Sein hochauflösender Scanner verwendet seine fortschrittlichen Bildgebungsfunktionen für große Detailregistrierung und -kontrast und verwendet eine variable Laserpulsbreite, Laserfleckgröße und -energie, um die Filmeigenschaften anzupassen. Das Werkzeug ist zudem mit einem einzigartigen Foliengreifmechanismus ausgestattet, der sicherstellt, dass die Folie für alle Belichtungszyklen fest gepflanzt wird. CEE 200 bietet auch eine breite Palette von Image-Erfassungs- und Mastering-Funktionen, die dem Asset Konfigurierbarkeit bieten. Die Integration mit dem Cutter Read Module (CRM), dem Controller Module (CM) und dem Variable Scan Module (VSM) ermöglicht es dem Benutzer, die Maskenbildungssysteme des Modells einfach zu konfigurieren. Darüber hinaus führt die automatische Belichtungsunterstützung Spaltmessungen auf der Oberfläche des Wafers durch, um eine korrekte Fokussierung und Belichtungszeit über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Das System BREWER SCIENCE CEE 200 bietet einen umfassenden Entwicklungs- und Produktionsarbeitsplatz mit allen notwendigen Funktionen und Steuerungen zur Herstellung von qualitativ hochwertigen Fotoresists. Die optomechanische Integration bietet maximale Flexibilität und Kontrolle in der Entwicklung, sodass Benutzer die Funktionalität des Geräts an die Anwendung anpassen können. Alle CEE 200 Systeme werden von der intuitiven Brewmaster III Software angetrieben, so dass der Benutzer alle Prozesselemente mit Leichtigkeit auswählen und anpassen kann. Insgesamt ist die Maschine BREWER SCIENCE CEE 200 ein unglaublich leistungsfähiges und zuverlässiges Freigabewerkzeug für Photoresist, das unvergleichliche Genauigkeit, Kontrolle und Flexibilität für Lithographie-Prozesse bietet. Dank seiner automatisierten Funktionen, dynamischen Integrationen und leistungsstarken Bildgebungsfunktionen ist es die perfekte Wahl für die heutigen anspruchsvollen Fertigungsprozesse.