Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 200 #293765607 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 200 ist ein Industriestandard, Nicht-Abscheidung Photoresist Ausrüstung für Halbleiter Wafer Herstellung verwendet. Das System besteht aus zwei Teilen; der Photoresist Prozessor und die Wet Station. Der Photoresist Prozessor besteht aus einer doppelwandigen zylindrischen Kammer mit einer inneren Oberfläche aus Quarzglas, die zur Diffusionsheizung verwendet wird. Die UV-Belichtungseinheit befindet sich in der Mitte und ist in der Lage, Funktionen mit Breiten von bis zu 4 Mikrometer zu belichten. Der Photoresist Prozessor ist einstellbar, so dass Maskenschrittprogramme für einen bestimmten Fotolack optimiert werden können. Die Wet Station wird für Entwicklungs- und Spülzyklen verwendet. Es kann mit einer Vielzahl von Modulen für bestimmte Anwendungen konfiguriert werden. Es arbeitet mit Flüssigkeits- und Spin-Coating-Techniken, um den Photoresist zu formulieren und aufzutragen. Die Wet Station ist zudem mit einem Vakuummodul ausgestattet, das eine verbesserte Resisthaftung und eine verbesserte Gleichmäßigkeit ermöglicht. Die Transportmaschine der Wet Station ermöglicht den Wafer-Transfer inklusive Transport zwischen Modulen. CEE 200 Werkzeug bietet eine Vielzahl von Anwendungen. Es eignet sich gut für IC-Herstellung, Dünnschichtabscheidung, Schaltungsdebug, Planarisierung und Lithographieverfahren. Das Asset ist vollständig automatisiert und kann mit einer Vielzahl von Funktionen konfiguriert werden, um spezifische Anforderungen an die Herstellung von Wafern zu erfüllen. Es ist hochempfindlich auf Lichtwellenlängen und bietet eine ausgezeichnete Ausrichtung während der Belichtung. BREWER SCIENCE CEE 200 bietet auch eine präzise Kontrolle der Belichtungszeiten mit einer Auflösung von 0,1 µm. Darüber hinaus bietet CEE 200 hochpräzise Bedienung und Reinraumkompatibilität und ist damit ein zuverlässiges Werkzeug für die Entwicklung neuer Halbleitertechnologie. Es ist auch für längere Lebensdauer konzipiert, mit erweiterten Funktionen, die Wartung und Bodenwartbarkeit ermöglichen. Das Modell hat sich auch in einer Vielzahl von Hochlaufanwendungen, einschließlich 16nm und 10nm Lithographie, als zuverlässig erwiesen. Insgesamt ist BREWER SCIENCE CEE 200 ein fortschrittlicher Photolackprozessor, der ausgezeichnete Leistung für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsaufgaben bietet. Es bietet hochpräzise Merkmale mit einer langen Lebensdauer und ist damit ein unverzichtbares Werkzeug für die entstehende Halbleitertechnologie.