Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 2100 #77373 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 2100 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird, um Merkmale in mikroelektronischen Bauelementen und anderen Produkten zu ätzen oder zu „entwickeln“. Photolacksysteme werden verwendet, um ein negatives Bild auf der Oberfläche eines Substrats zu erzeugen, um Material zu ätzen oder zu entfernen, um eine gewünschte Form oder ein gewünschtes Muster zu erzeugen. CEE 2100 ist ein fortschrittliches Photolacksystem zur Herstellung hochwertiger mikroelektronischer Bauelemente und mikrostrukturierter Bauelemente. BREWER SCIENCE CEE 2100 Photoresist-Einheit verfügt über eine Vakuum cha & mbsp; mber, Substrathalter und Wafer Handhabungsmaschine für schnelles, effizientes Be- und Entladen von Substraten. CEE 2100 verfügt zudem über eine einzigartige und effiziente Dual-Stage-Imaging-Baugruppe, die die optimale Photoresist-Abdeckung der Substratoberfläche ermöglicht. Der Photoresist Stripper ist ein spezialisiertes Werkzeug, das verwendet wird, um überschüssiges Photoresist-Material von der Substratoberfläche zu entfernen und der Substratreiniger wird verwendet, um die Substratoberfläche zu reinigen, bevor der Photoresist beschichtet wird. Das Photolackverfahren beginnt mit dem Vor- oder Vorreinigungszyklus, bei dem Tenside, Lösungsmittel und Waschmittel zur Herstellung des Substrats zur Beschichtung eingesetzt werden. An den Vorprozesszyklus schließt sich ein Beschichtungszyklus an, mit dem eine gleichmäßige und genaue Schicht aus Photoresistmaterial auf das Substrat aufgebracht wird. Der Photolack wird dann elektromagnetischer Strahlung ausgesetzt, mit der der Photolack aktiviert und das gewünschte Muster auf die Substratoberfläche aufgedruckt wird. Anschließend werden Nachbelichtungsbehandlungen eingesetzt, um das Bild weiter zu verfeinern. Der Photolack wird gehärtet und entwickelt, wodurch der Photolack unter Ausschluss des gewünschten Musters auf der Substratoberfläche verbleiben kann. Nach der Entwicklung werden die Teile in einem naßchemischen Bad gespült, das den Photolack von den übrigen Bereichen der Substratoberfläche ablöst und das gewünschte Muster verlässt. Die letzten Schritte des Photoresist-Prozesses umfassen eine Nachbelichtungssubstratreinigung und -spülung, die dazu beitragen, restliches Photoresist-Material von der Substratoberfläche zu entfernen. BREWER SCIENCE CEE 2100 Asset ist für fortschrittliche Mikroelektronik und mikrostrukturierte Komponenten konzipiert und bietet ein zuverlässiges, effizientes und genaues Verfahren für die Photolackverarbeitung.