Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 3000 #9253480 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 3000 ist eine hochauflösende Photoresist-Ausrüstung der nächsten Generation, die die Entwicklung von High-End-Halbleiteranwendungen ermöglicht. Das System besteht aus einem Resist-Dispense-Stand, einem chemischen Versorgungs- und Liefermodul, einer Kalibrierstation und einer leistungsstarken Lichtquelle. Der Resist Dispense Stand nutzt die patentierte SiroccoHapTec Resist-Dispensing-Technologie, um Photoresists sicher und präzise auf Halbleiterscheiben mit kleinen Eigenschaften zu platzieren. Dadurch wird sichergestellt, dass die Wafer exakt zur Ausrichtung und Bildgebung mit der leistungsstarken Lichtquelle präsentiert werden. Das Modul für die chemische Versorgung und Lieferung soll eine konsistente und präzise Versorgung und Lieferung von Fotoresistenten und Entwicklern ermöglichen. Die Kalibrierstation wird mit einer einzigartigen EasyCal-Software geliefert, die eine genaue Widerstandskalibrierung ermöglicht, was zu einer hervorragenden Auflösung und Mustertransfer führt. Der LCD-Monitor wird verwendet, um Belichtungszeit und Lichtintensität für die Resistmusterung genau zu steuern. Es bietet auch eine einfache grafische Benutzeroberfläche zur Steuerung der Waferbelichtung. Die leistungsstarke Lichtquelle wird für die Photolithographie verwendet und ist in der Lage, intensives, gleichmäßiges Licht zu erzeugen. Diese Lichtquelle kann einen hohen Volumendurchsatz für erweiterte Funktionsgrößen erzeugen und bietet enorme Flexibilität bei der Belichtungszeit, um eine Vielzahl von Prozessanforderungen zu erfüllen. CEE 3000 ist eine fortschrittliche, einfach zu bedienende Photolackeinheit, die die Lithographie-Verarbeitung vereinfacht und eine fortschrittliche Halbleiterproduktion ermöglicht. Diese Maschine ist ideal für diejenigen, die mit mikroelektronischen Materialien, Dünnschichtmaterialien und Halbleitern arbeiten. Die präzisen Widerstandsbildfähigkeiten des Werkzeugs, die genaue Kalibrierung und die leistungsstarke Lichtquelle ermöglichen es dem Benutzer, schnell und einfach komplexe und komplizierte Muster zu erstellen.