Gebraucht BREWER SCIENCE CEE 4000 #9378937 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE 4000 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung für fortgeschrittene Lithographiezwecke. Es verfügt über eine vollständige Palette von Photoresist-Technologie und eine sehr zuverlässige robuste Konstruktion für den Einsatz in Reinraumbedingungen. BREWER SCIENCE 4000 ist in der Lage, den Fotolack aus einer Reihe von Winkeln und einer Vielzahl von Lithographiemasken wie OPC und Infinity-Belichtungsmasken zu belichten. Damit eignet es sich für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Herstellung von Halbleiterbauelementen und die Mikrofabrikation. CEE 4000 verfügt über einen hochzuverlässigen Photoresist-Beschichtungs- und Backzyklus auf Vakuumbasis. Dieses Vakuum ermöglicht ein Tieftemperatur-Einbrennen der Photolackmaterialien für maximale photomechanische Stabilität und Ausbeute. Das gleichmäßige Vakuum ermöglicht die Steuerung des Lithographieprozesses und eine hochauflösende Abbildung. Die breite Palette automatisierter Prozessfunktionen sorgt für maximale Verfügbarkeit und Kosteneinsparungen. Es umfasst automatisierte Flüssigkeits- und Trockenfilmbildung, Belichtung, Verarbeitung und Nachbearbeitungszyklen. Dies erhöht sowohl die Produktionseffizienz als auch die Gleichmäßigkeit. 4000 verfügt zudem über ein immersives Konnektivitätssystem, mit dem es in einen Workflow für die digitale Fertigung integriert werden kann. Dies ermöglicht eine verstärkte Zusammenarbeit zwischen Abteilungen, Teams und Systemen. Es ermöglicht auch die Verbindung mit Remote-Systemen, so dass die Fernbedienung und Überwachung des gesamten Prozesses. Das Gerät ist für den Reinraumgebrauch zertifiziert und verfügt über eine vorjustierte Düsenmaschine zur optimalen Partikeldetektion. Es verfügt auch über ein Inline-Flüssigkeitsfiltrationswerkzeug, um eine saubere Verarbeitungsumgebung zu gewährleisten und Partikel- und Kontaminationsprobleme zu minimieren. Abschließend ist BREWER SCIENCE CEE 4000 ein hochmoderner Photoresist für fortschrittliche Lithographie. Es verfügt über erweiterte Automatisierungsfunktionen, eine hochzuverlässige vakuumbasierte Photoresist-Beschichtung und einen Backzyklus und ein immersives Konnektivitätsmodell für mehr Zusammenarbeit und Fernbedienung. Dieses Gerät ist ein zuverlässiges und kostengünstiges Photolacksystem, das für eine Vielzahl von Lithographieanwendungen geeignet ist.