Gebraucht BREWER SCIENCE CEE C100 #9192231 zu verkaufen

BREWER SCIENCE CEE C100 (Chemically Enhanced Etching) ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zur Unterstützung von geätzten Merkmalen in Mikroherstellungsprozessen verwendet wird. Dieses System verwendet ein einzigartiges Verfahren, um einen Resist auf Harzbasis mit dem zu ätzenden Material zu verbinden. Anstatt sich auf eine absolute chemische Anbindung der Folie zu verlassen - wie dies bei herkömmlichen Photoresists der Fall ist - setzt die CEE- C100-Einheit einen speziell entwickelten Vorläufer für reaktive Zwischenprodukte ein, um die Bindung des Resists an das Substrat zu verbessern. BREWER SCIENCE CEE C100 Maschine wurde entwickelt, um die Fähigkeiten der traditionellen Photoresists zu implementieren und gleichzeitig verbesserte Reißfestigkeit, verbesserte Haftung gegenüber dem Substrat und überlegene chemische Ätzbeständigkeit hinzuzufügen. Die bessere Haftung des Resists auf dem Substrat ermöglicht eine erhöhte Ätzfenstergenauigkeit und mehr Auflösung für geätzte Merkmale. Um den Prozess zu beginnen, wird die Materialoberfläche vorbereitet, um die chemische Wechselwirkung zwischen ihr und der Photolackschicht zu maximieren. Nach Entfettung der Oberfläche wird ein proprietärer Vorläufer aufgebracht und anschließend mit der Oberfläche reagieren gelassen. Diese Reaktion hilft, die Resistschicht fest mit dem Substrat zu verbinden, wodurch die ideale Schicht für geätzte Merkmale entsteht. Die Photolackschicht wird dann der Musterlichtquelle in der gewünschten Form ausgesetzt. Exponierte Bereiche werden chemisch inert und löslich vor den Ätzchemikalien geschützt, während unbelichtete Bereiche Ätzmedien ausgesetzt bleiben. Der Ätzvorgang kann dann in die gewünschte Tiefe und Form des gewünschten Merkmals verlaufen. Nach Beendigung des Ätzvorgangs wird die verbleibende Photolackschicht vom Substrat weggezogen, um das Bearbeitungsmerkmal zu vervollständigen. CEE- C100-Tool bietet bis zu 20x verbesserte Ätzfestigkeit von traditionellen Widerständen, mit verbesserter Ätzfenstergenauigkeit und saubereren Funktionen geätzt werden. Insgesamt steht BREWER SCIENCE CEE C100 Asset für die Verbesserung von Ätzgenauigkeit, Auflösung, chemischer Ätzbeständigkeit, Haftung und Selbstnivellierung von Photoresists. Die erhöhte Ätzfenstergenauigkeit, gleichmäßigere Ätztiefe und erhöhte Ausbeute machen dieses Modell zu einer idealen Wahl für diejenigen, die die Genauigkeit und Wiederholbarkeit für ihre Mikroherstellung erhöhen möchten.