Gebraucht BUHLER / LEYBOLD OPTICS UCS 40 #9363015 zu verkaufen

BUHLER/LEYBOLD OPTICS UCS 40 ist eine Photoresist-Anlage für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Dieses System verwendet Photolithographie-Techniken, um Muster auf einem Substrat zu erstellen, mit einem hochauflösenden SEMI Standard BSIM3v3 Modell für Genauigkeit. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen Belichtungseinheit, hochpräzisen elektromechanischen Stufen und Xenon Lamp Lightsources ausgestattet. In der Belichtungsstufe wird das obere Substrat einem auf der Maske nachgebildeten Muster ausgesetzt. Die Maske wird mit einem Laser beleuchtet, der auf die entsprechende Intensität moduliert und auf das Substrat fokussiert wird. Die Belichtungseinheit sorgt dafür, dass die maximale Intensität des Lasers erreicht wird und die Belichtung im gesamten Substrat gleichmäßig ist. Nach der Belichtung wird das Bild von der Maske auf einen Resist auf Kieselsäurebasis übertragen, der vor Eintritt in die Entwicklungsstufe auf dem Substrat verteilt wird. Die Entwicklungsstufe soll bestimmte Bereiche des belichteten Resists entsprechend dem Maskenmuster vergrößern oder reduzieren. Dies geschieht mittels Schwabberscheiben, die helfen, ein homogenes Resistgleichgewicht in den Bereichen aufrechtzuerhalten, die freigelegt oder entwickelt werden müssen. Die Genauigkeit der Entwicklung wird durch den Einsatz elektromechanischer Stufen weiter erhöht, was einen genauen Betrieb auf Mikroniveau ermöglicht. Die letzte Stufe des Photolackverfahrens ist die Photolackentfernungsstufe. Diese Stufe verwendet eine Lösung auf Säurebasis, um jeden belichteten oder entwickelten Resist aufzulösen. Die Umgebungstemperatur wird sorgfältig überwacht, um eine optimale Reaktionsgeschwindigkeit zu erhalten, die höchste Qualitätsergebnisse ermöglicht. BUHLER UCS 40 ist eine zuverlässige Photolithographie-Maschine, die von Fachleuten getestet wurde, um die genauesten und qualitativ hochwertigsten Ergebnisse zu liefern. Das Werkzeug ist von einer Vielzahl von Lieferanten erhältlich, und sein Design und seine Eigenschaften machen es leicht anpassbar für jeden Halbleiterproduktionsprozess.