Gebraucht C&D SEMI 2-T:I\8838\8844\88SMC\8836\I #9177167 zu verkaufen

C&D SEMI 2-T:I\8838\8844\88SMC\8836\I
ID: 9177167
Wafergröße: 2"-3"
Automated photoresist track coater, 2"-3" (2) Tracks Cassette to cassette.
C&D SEMI 2-T: I\8838\8844\88SMC\8836\I „photoresist“ -Ausrüstung ist ein automatisiertes Beschichtungsauftragssystem, das bei der Herstellung von hochpräzisen elektronischen Komponenten verwendet wird. Es nutzt eine Vielzahl von markanten Technologien und Eigenschaften, um einheitliche, qualitativ hochwertige Beschichtungen über mehrere Schichten und eine breite Palette von Oberflächen zu gewährleisten. Das Gerät verwendet eine fortschrittliche ionenstrahlgestützte Abscheidungstechnik (IBAD), um eine einheitliche, konsistente Beschichtung zu schaffen. Unter Verwendung eines schweren Ionenstrahls, der auf spiegelnde Enden von Komponenten in der Prozesskammer ausgerichtet ist, erzeugt die Maschine ein Netz von Atomen, das eine Plattform für einheitliche Beschichtungsprozesse mit feinerer Kontrolle als andere Methoden bietet. Die IBAD-Technik schafft auch eine stärkere Verbindung zwischen der Beschichtung und dem Substrat - was wesentlich ist, um den Erfolg des Produkts bei der Herstellung zu gewährleisten. Das Werkzeug verwendet auch einen Spin-Voting-Spülvorgang, der darauf ausgelegt ist, dass die Beschichtung gleichmäßig über die Platine verteilt ist. Das Spin-Voting-Verfahren eignet sich aufgrund seiner präzisen Steuerung der Abscheidegeschwindigkeit ideal für den Einsatz mit Photolack, was eine möglichst konsistente und gleichmäßige Beschichtung ermöglicht. HALB-Vermögenswert von C&D zeigt auch einen Vielfachequelle-Partikelnsimulierungsraum, der verwendet wird, um hochgenaue Oblatenniveaufortpflanzung eines Designs zu schaffen. Die Partikelsimulationskammer verwendet ein fortschrittliches Partikelverfolgungsmodell, um eine Vielzahl von Mustern, Formen und Winkeln genau zu simulieren. Dies ermöglicht die Herstellung hochpräziser Bauteile mit besserer Wiederholgenauigkeit und höherer Produktgleichförmigkeit. Darüber hinaus integriert die Anlage den Einsatz automatisierter Beschichtungs- und Postproduktionsprozesse wie Sputterätzen, Nachbelichtungsbacken und Desmear. Das automatisierte System besteht aus einem Säurebad, einer Lösungsmittelkammer und einer thermischen Reflowkammer, mit der Komponenten schnell und präzise veredelt werden können. Diese Prozesse sorgen für eine verbesserte Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit und reduzieren den Zeitaufwand für die Produktentwicklung. C&D SEMI 2-T: I\8838\8844\88SMC\8836\I Einheit wurde entwickelt, um die höchstmögliche Genauigkeit und Gleichmäßigkeit beim Aufbringen von Photolackbeschichtungen zu gewährleisten. Mit der fortschrittlichen IBAD-Technologie, dem Spin-Voting-Spülprozess und automatisierten Nachproduktionsprozessen ist diese Photoresist-Maschine ein wesentlicher Bestandteil des Produktionsprozesses jeder Organisation.
Es liegen noch keine Bewertungen vor