Gebraucht C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I #9177294 zu verkaufen

C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I ist eine anpassbare Photoresist-Ausrüstung, die für präzise Materialbearbeitungsanwendungen entwickelt wurde, die genaue und wiederholbare Ergebnisse erfordern. Das System ist für den Einsatz mit einer Vielzahl von Photolackmaterialien über mehrere Verarbeitungsschritte hinweg konzipiert, einschließlich Dünnschichtabscheidung, Photolithographie, Ätzen und Ionenimplantation. Die Einheit besteht aus zwei Spuren, eine für die Photolithographie und die andere für die Ätz- und Ionenimplantation, die jeweils für eine Vielzahl von Substraten und Materialien konfiguriert werden können. Die Photolithographie-Spur ist sowohl mit Standard-positiven als auch negativen Photoresists kompatibel, und verschiedene vorbelichtete und nachbelichtete Resisttechniken ermöglichen es dem Benutzer, Pin-Point-Genauigkeit bei der Abbildung von Strukturen mit Merkmalsgrößen von bis zu 6,5 Mikron zu erreichen. Die Ätz-/Ionen-Implantatspur ist in der Lage, Materialien mit Submikron-Präzision zu verarbeiten, mit der Fähigkeit, die Ätzrate und die direktionale Ionenimplantation genau zu steuern. Die Maschine kann mit zusätzlichen Komponenten und Zubehör, wie einer In-situ-Druckkammer zur Verbesserung der Ätzleistung, sowie einem Plasmagenerator zur weiteren Steuerung von Ätzparametern konfiguriert werden. Durch die Kombination fortschrittlicher Photolithographie- und Ätztechnologien bietet C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I einen zuverlässigen und wiederholbaren Prozess für die Verarbeitung von tiefen Submikronmaterialien. Der Anwendungsbereich reicht von der Halbleiterbauelementherstellung bis hin zu präzisen optischen Systemen.