Gebraucht C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I #9133837 zu verkaufen

C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I ist eine industrielle Photolackverarbeitungsanlage, die speziell für anspruchsvolle Halbleiterproduktionsumgebungen entwickelt wurde. Das Design des Systems ermöglicht eine zuverlässige, gleichmäßige Verarbeitung von bis zu 8.626 Wafern pro Lauf und 36 Zoll Wafergrößen. Die C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I Einheit besteht aus zwei (2) unabhängigen Verarbeitungskammern mit jeweils einem eigenen Bedienfeld, einer Vakuummaschine und einer photolithographischen Produktion. Das Hauptmerkmal des Photoresist-Werkzeugs ist seine Fähigkeit, einheitliche und wiederholbare Photoresist-Ergebnisse für alle verarbeiteten Wafer zu erzeugen. Dies geschieht durch zwei unabhängige photolithographische Belichtungssysteme, die das gleiche Muster auf zwei benachbarten oder nicht benachbarten Wafern erzeugen können. Jede Kammer kann individuell für die Verarbeitung von Fotolack optimiert werden, was Ausfallzeiten und Kosten minimiert. Darüber hinaus verfügt die Kammer über eine automatisierte Prozessoptimierung durch Software, die eine wiederholbare Produktion von Wafern mit minimaler Ausfallzeit ermöglicht. Durch diese automatisierte Prozessoptimierung werden Kosten und Zeitaufwand für Produktionsabläufe weiter reduziert und der Waferertrag erhöht. C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I Asset verfügt über einen Temperaturbereich von bis zu 300 ° C und ein Vakuum-Modell mit bis zu 10-7 Torr. Das Gerät ist mit einem programmierbaren Verschlusssystem ausgestattet, um eine kontrollierte Maskenbelichtung zu gewährleisten. Diese Funktion ermöglicht die einmalige Waferbelichtung oder Chargenbelichtung mehrerer Wafer im gleichen Lauf, wodurch die Bearbeitungszeit weiter reduziert wird. Das Gerät nutzt auch die Reinbanktechnik der Klasse 100, die eine bordeigene Partikelüberwachungsmaschine umfasst. Dies ermöglicht eine optimale Kontrolle der Partikelwerte sowie die Überwachung der Kontamination, um eine saubere Arbeitsumgebung zu gewährleisten. C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I Photoresist-Tool bietet eine umfassende Reihe von Funktionen, um branchenführende photolithographische Produktion für Halbleiter-Produktionsumgebungen zur Verfügung zu stellen. Die Anlage bietet eine breite Palette von Temperaturen, Drücken und eine präzise Steuerung der photolithischen Belichtungszeiten. Die softwarebasierte Prozessoptimierung ermöglicht wiederholbare Produktionsprozesse mit minimalen Ausfallzeiten und Kosten. Die saubere Bank-Technologie des Modells sorgt zudem dafür, dass die Umwelt frei von Verunreinigungen bleibt. Mit dieser leistungsstarken und zuverlässigen photolithographischen Produktionsausrüstung können Hersteller Kosten und Zeit reduzieren, um qualitativ hochwertige Wafererträge zu produzieren.