Gebraucht C&D SEMI 6700 #9219324 zu verkaufen

C&D SEMI 6700 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die Hersteller dabei unterstützt, spezialisierte Muster auf eine Vielzahl von Substraten zu ätzen. Das System ist in der Elektronikindustrie weit verbreitet, um Schutzschichten und Beschichtungen auf verschiedene Komponenten zu ätzen. Die Kernkomponenten von 6700 sind zwei integrierte optische Systeme. Die erste Einheit verwendet ein modernes lithographisches Mikroskop, um Anwendern zu helfen, hochpräzise, komplizierte Muster auf dem Substrat zu erstellen. Dieses Mikroskop ist mit einer ausgeklügelten Optik ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, selbst kleinste Funktionen genau zu zielen und zu identifizieren. Die zweite optische Maschine verwendet ein Hochleistungs-lithographisches Belichtungswerkzeug, um benutzerdefinierte Muster auf die Oberfläche des Substrats zu übertragen. Dieses Element koppelt die Hintergrundbeleuchtung mit einem Abbildungsmodell, das wahrscheinlich eine Reihe von Linsen verwendet, um ein hochauflösendes Bild des Substrats zu liefern. Dieses Gerät kann auch eine IR-Kamera verwenden, um kleine Unregelmäßigkeiten im Substrat zu erkennen und die Fehlerchancen zu reduzieren. Das Verfahren beginnt mit einer Photolacklösung, die auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht wird. Dieses Resistmaterial ist lichtempfindlich und wird später verwendet, um die gemusterte Oberfläche vor Ätzchemikalien zu schützen. Beim Beladen der Vorrichtung mit dem Substrat wird das Resistmaterial selektiv dem durch die Mikroskopopoptik erzeugten fokussierten Lichtmuster ausgesetzt. C&D SEMI 6700 ist hochkonfigurierbar und bietet zahlreiche Modellvarianten für unterschiedliche Anforderungen. Das Gerät verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Benutzer schnell vordefinierte Parameter einstellen und mit dem Ätzen von Mustern auf das Substrat beginnen können. Zusätzlich ist das Gerät mit verschiedenen Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um das Fehlerpotenzial des Bedieners zu minimieren. Insgesamt ist 6700 ein vielseitiges, leistungsfähiges Photolacksystem. Die Kombination der fortgeschrittenen Steindruckoptik und einer eingebetteten Hinternbeleuchtungsbildaufbereitungseinheit gibt ihm die Fähigkeit, hoch ausführlich berichtete und genaue Muster auf Substraten zu erzeugen. Darüber hinaus ermöglicht die robuste Benutzeroberfläche dem Anwender, Parameter schnell einzustellen und Ätzprozesse zu starten, während die Sicherheitsfunktionen eine zusätzliche Schutzschicht bieten.