Gebraucht C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK #9205718 zu verkaufen

C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK Photolackausrüstung ist ein vielseitiges, einfach zu bedienendes und robustes Photolithographiesystem für die Herstellung von hochgenauen Masken, Wafern, Formteilen und Leiterplatten. Es ist einzigartig für die Weiterentwicklung der Halbleiterindustrie entworfen, indem es verbesserte Wirtschaftlichkeit, Präzision und eine Vielzahl von fotografischen Prozessen für präzise Fertigungsergebnisse bietet. C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK Photolackeinheit ist speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt, um hochpräzise Masken und Wafer zu produzieren. Es enthält zwei Spuren für die Maskierungs- und Musterphasen einer Produktion. Die erste Spur verwendet fünf Bilder - den oberen Rahmen, eine Rückbelichtung, eine Diffusionsmaske, eine Musterübertragungsplatte und eine wasserbeladene Glasschiene - die zweite Spur besteht aus fünf weiteren Bildern - den oberen Rahmen, eine Rückbelichtung, eine Kontaminationsmaske, eine Musterübertragungsplatte und eine trockene Glasschiene. Der obere Rahmen dient zur Belichtung der trockenen Glasfolie, auf die die fotografische Maske aufgezogen wird. Die Rückenbelichtung wird mit der Diffusionsmaske verwendet, um Schärfentiefe zu gewährleisten, während das Muster der Maske auf der Glasfolie präsentiert wird. Die Kontaminationsmaske dient zur Tilgung der auf dem Glasschieber vorhandenen Chemikalien. Die Musterübertragungsplatte wird verwendet, um ein optisch korrigiertes Bild auf der Glasfolie zu erzeugen, während die mit Wasser beladene Glasfolie verwendet wird, um eine perfekte Haftung für die fotografische Maske und den Druck des Musters auf die Platte zu gewährleisten. Die C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK Fotolackmaschine ist mit Präzisionsoptiken und lasergeführten Ausrichtwerkzeugen ausgestattet. Seine hochkarätige Konstruktion macht es zuverlässig und in der Lage, hochauflösende Ergebnisse zu erzielen. Mit verbesserten Fortschritten in der Druckklarheit und ausgezeichneter Haftung aller Schichten ist es das effizienteste und kostengünstigste Photolithographiewerkzeug für die Herstellung hochgenauer Masken, Wafer, Formteile und Leiterplatten. Es ist auch die perfekte Wahl für fortschrittliche Photolithographieverfahren einschließlich fortschrittlicher Dünnschichtelektronik. C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK Photoresist Asset bietet überlegene Auflösung Konsistenz durch die Einbeziehung einer einheitlichen Betriebsmuster. Außerdem sorgt es mit seinen fortschrittlichen Ausrichtungswerkzeugen für eine höhere Bildpräzision, die auch nach langen Einsatzstunden kleine Anpassungen ermöglicht. Darüber hinaus garantiert es robuste Herstellungsprozesse mit seinem Anti-Kontamination-Merkmal, das Unregelmäßigkeiten auch bei wiederholten Expositionen verhindert. Das Modell bietet somit die beste Qualität von Masken, Wafern, Formteilen und Leiterplatten für die Herstellung moderner elektronischer Geräte.