Gebraucht C&D SEMI P-8000 #9153359 zu verkaufen

Die CD SEMI C&D SEMI P-8000 Photoresist Equipment ist ein Hochleistungs-Photolithographiesystem zur Herstellung fortschrittlicher Strukturen auf Halbleitersubstraten. Die Einheit ist in der Lage, hochgenaue, dünne Photolackschichten auf Siliziumscheiben abzuscheiden und zu entfernen, was eine ausgezeichnete Ätzselektivität und -verträglichkeit mit einer Vielzahl von Substraten bietet. Es ist auf optimale Genauigkeit und Durchsatz ausgelegt, mit der Fähigkeit, bis zu 53 Wafer pro Stunde mit einer Mustergenauigkeit von +/- 1,5 μ m zu verarbeiten. Die Maschine besteht aus einer Vakuumkammer, einem herkömmlichen Schrittoptikwerkzeug, einer Quarzschale, einem Substrathalter und einer Substratstufe. Die photolithographische Optik umfasst einen Strahlteiler und eine Kondensatorlinse, die für eine gleichmäßige Beleuchtung des Substrats ausgelegt sind. Die Quarzschale wird verwendet, um den Photolack vor seiner Abscheidung auf dem Substrat unterzubringen und zu halten. Der Substrathalter ist mit einer Heizung ausgestattet, mit der die Temperatur des Substrats während der Photolackabscheidung gesteuert wird. Die Substratstufe, die von einem hochauflösenden Schrittmotor angetrieben wird, ermöglicht eine präzise Platzierung des Substrats während des Photolithographie-Prozesses. C&D SEMI P8000 ist mit einem Single-Mode Ringdiodenlaser (SMADL) ausgestattet, der verwendet wird, um die Wellenlängen des Lichtes, das verwendet wird, um den Photolack zu belichten, genau zu steuern. Der SMADL Laser wurde speziell entwickelt, um höchste Genauigkeit und Qualität der photolithographischen Musterung zu gewährleisten. Darüber hinaus führt das Festkörper-Design von P 8000 zu einer hohen Zuverlässigkeit, so dass es den Strenge harter industrieller Umgebungen standhält. Das Modell ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, die zur Verbesserung der Leistung und zur Senkung der Produktionskosten beitragen können. Beispielsweise ist die Anlage mit einem automatischen Folienschneidwerkzeug ausgestattet, das eine präzise Auswahl von Folienlänge und -lage ermöglicht und somit die Substratausnutzung optimiert. Darüber hinaus nutzt das System eine fortschrittliche Temperaturkontrolleinheit für die Fotoresistenzverarbeitung, die eine gleichbleibende Strukturierleistung gewährleistet. Schließlich ist P8000 mit einer Vielzahl von Substraten kompatibel, darunter Galliumarsenid, Siliciumcarbid und Diamant. Zusammenfassend ist die CD SEMI C&D SEMI P 8000 Photoresist Machine ein robustes und effizientes Photolithographie-Tool zur Herstellung fortschrittlicher Strukturen im Mikrometermaßstab. Es bietet ausgezeichnete Genauigkeit und Durchsatz, mit Kompatibilität für eine breite Palette von Substraten und ist mit fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, um die Produktionskosten zu senken und die Leistung zu verbessern.