Gebraucht C&D SEMI SVG 86xx #9132896 zu verkaufen

C&D SEMI SVG 86xx ist eine fortschrittliche Foto-Resist-Ausrüstung zur Herstellung von Photomasken für die Halbleiterherstellung. Es ist ein vollintegriertes automatisiertes System, das es Kunden ermöglicht, hochpräzise Photomasken schnell mit wiederholbaren und zuverlässigen Ergebnissen herzustellen. Das Gerät ist in der Lage, Funktionen bis zu 0,15 μ m zu strukturieren und aufzulösen, sodass Kunden komplexe Fälle mit genauen Funktionen erstellen können. Darüber hinaus ermöglicht es seine fortschrittliche Fotoresistmaschine, eine Vielzahl von Musterformen zu plattformen und Muster mit hoher Präzision zu erstellen. Es verwendet auch verschiedene erweiterte KEs wie variable Musterformgrößen, lineare Verjüngungen, Fasen und Photoresist-Chippen für Eckentrimmungen. SVG 86xx verfügt über eine breite Palette von Funktionen, wie LED-basierte Lichtquellen, Multi-Wellenlängen-Bildgebung und PMS-Teilchenstrahl-Lithographie. Es bietet auch Unterstützung für Verschlusswerkzeug, hohe Seitenverhältnisse widerstehen Entwicklung und Rückseite Belichtungen. Darüber hinaus verfügt es über das PATRA Auto-Focus-Asset, das wiederholbare und präzise Autofokus-Funktionen bietet. Darüber hinaus verfügt C&D SEMI SVG 86xx auch über eine Reihe von erweiterten Bildgebungsoptionen für die Musterregistrierung und Fotomaskenherstellung. Diese Optionen umfassen lineare Array-Verarbeitung, Matrix-Array-Verarbeitung, simultane Bildgebung und Feinabstimmung der Photoresist-Entwicklung. Darüber hinaus kann sein integriertes Musterprojektionsmodell leicht konfiguriert werden, um eine Reihe von Anwendungen zu bieten. SVG 86xx bietet eine hochgradig anpassbare Plattform, die für eine Vielzahl von Anwendungsanforderungen geeignet ist. Vom PCB-Design bis hin zu integrierten Schaltungen eignet sich dieses fortschrittliche Photomasken-Fertigungssystem für eine Vielzahl von Anwendungen wie Dünnschichtresistverarbeitung, Leistungselektronik, Biochips und Automobilelektronik.