Gebraucht CALI-TECH CT-605D #9236280 zu verkaufen

CALI-TECH CT-605D Photoresist Equipment ist eine Multifunktionseinheit zur präzisen Bildgebung und Entfernung von Photoresist-Materialien. Photoresist ist eine Art von Material, das durch Anwendung unterschiedlicher Mengen an Lichtbelichtung von einem Zustand zum anderen verschoben wird. Das System bietet eine präzise Steuerung der einzelnen Prozessschritte, die Präzisionsbelichtung, Entwicklung und Trocknung kombinieren. Das Gerät bietet eine voll funktionsfähige Hochleistungs-Belichtungseinheit für überlegene Bildgebungsleistung. Die Maschine verwendet eine Scan-Maske-Ausrichtung Leistungsobjektiv Objektiv, die variable Vergrößerung ermöglicht eine breite Palette von Bildfeldgrößen und vergleichbare Funktionsgrößen bis zu 0,12 Mikrometer. Die Belichtungsquelle verwendet einen Excimerlaser mit einer Wellenlänge von 248 nm bei einer fortgesetzten Leistung von 180 mw, was eine überlegene Bildgebungsleistung bei einem Bruchteil der Kosten herkömmlicher Schrittsysteme liefert. Das Gerät verwendet auch Kommunikationskabel unterstützt die Verwendung von mehreren Belichtungsköpfen und eine Vielzahl von Beschichtungs- und Entwicklungskammern für mehr Vielseitigkeit. Die Modularität des Werkzeugs macht es zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen. Seine einfach zu bedienende Software-Steuerung macht es einfach, Parameter für verschiedene Photolackmaterialien und -prozesse einzurichten und anzupassen. Die Anlage umfasst auch eine Trockenkammer zur Entfernung von unbelichtetem Photoresist und integriert I/O-Konnektivität zu zusätzlichen Geräten für alle Schritte im Photoresist-Prozess. Das Modell enthält zusätzliche Funktionen wie eine Autofokus-Ausrüstung, die den Fokus zwischen Maske und Substrat automatisch anpasst, und ein integriertes Fehlererkennungssystem, das den Bediener während des Prozesses automatisch auf Fehler aufmerksam machen kann. CT-605D Photoresist Unit ist ein hochentwickeltes, vielseitiges und kostengünstiges Werkzeug, das Präzisionssteuerung und zuverlässige Leistung für alle Photoresist-Prozesse bietet.