Gebraucht CALI-TECH CT-608D #9252347 zu verkaufen

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ID: 9252347
Weinlese: 2010
Rotary dryer 2010 vintage.
CALI-TECH CT-608D ist eine Photoresist-Ausrüstung für die fortschrittliche UV-basierte Lithographie-Verarbeitung. Mit diesem System werden fortschrittliche Dünnschichtmaterialien abgelegt und entwickelt, um leistungsstarke Schaltungen und Geräte mit kleineren Funktionsgrößen zu schaffen. CT-608D wurde entwickelt, um ein hochauflösendes Photolithographieverfahren bereitzustellen, das sowohl für Forschung als auch für industrielle Anwendungen geeignet ist. Zu den Kernkomponenten gehören eine Belichtungseinheit, eine Entwicklungsmaschine, ein Nachentwicklungs-Behandlungswerkzeug und ein automatisiertes Asset für das Wafer-Handling. Das Belichtungsmodell besteht aus einem großformatigen UV-intensiven Array von Leuchtdioden (LEDs) mit einem Wellenlängenbereich von 365nm bis 395nm. Der Wellenlängenbereich ermöglicht Flexibilität bei der Auswahl der Photolackschichten sowie die Implementierung mehrerer Belichtungstechniken. Die Entwicklungsausrüstung verfügt über ein zweistufiges, schnelles Nassentwicklungssystem, das in der Lage ist, die Photoresistentwicklung durchzuführen und dabei die Temperatur des Fotoresistes unter einem bestimmten Niveau zu halten. Dies ist besonders wichtig für ultradünne Photolackprozesse, bei denen die Temperatur unterhalb einer bestimmten Schwelle liegen muss, um Beschädigungen des Photolackes zu vermeiden. Die Nachentwicklungseinheit besteht aus einem Spin-Spül-Trockenmodul. Es dient zum Abspülen und Trocknen des Photolacks vor der Weiterverarbeitung. Die automatisierte Wafer-Handling-Maschine bietet einen hochautomatisierten Workflow und kann bis zu 30 Wafer gleichzeitig handhaben. Es ist voll kompatibel mit fortschrittlichen Wafer Transfer Robotern. Die Leistung von CALI-TECH CT-608D hat sich in verschiedenen Labor- und Industrieumgebungen bewährt. Es ist in der Lage, ultradünne Photoresistschichten mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 2 Mikron zu handhaben. Es ist sehr zuverlässig und effizient und eignet sich ideal für Produktionsprozesse in der fortschrittlichen Lithographie-Industrie.
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