Gebraucht CALITECH CT-605 #293585667 zu verkaufen

CALITECH CT-605
ID: 293585667
Wafergröße: 4"-6"
Weinlese: 2010
Spin Rinse Dryer (SRD), 4"-6" 2010 vintage.
CALITECH CT-605 Photoresist Equipment ist eine Komplettlösung für die Photolithographie. Es verwendet Photolackschichten, die auf einem Substrat gesponnen werden, um Muster oder Bilder auf dem Substratmaterial zu erzeugen. CT-605 Verfahren beinhaltet das Aufbringen einer Photoresistschicht auf das Substrat, das Belichten mit ultraviolettem Licht, das anschließende Entwickeln der belichteten Photoresistschicht zur Erzeugung eines dreidimensionalen Musters oder Bildes auf dem Substrat. CALITECH CT-605 verfügt über hohe Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit mit einer Vielzahl von Photoresists, Substraten und Substratgrößen. CT-605 ist auf einer XY-Achsen-XYZ-Plattform aufgebaut, mit einem thermisch gesteuerten Substratfutter und einem Linear-Schrittmotor, der eine präzise Bewegung ermöglicht. Dieses Design ermöglicht eine äußerst genaue Ausrichtung der Maske auf die Arbeitsfläche und gewährleistet eine präzise Kontrolle des auf dem Substrat gedruckten Musters oder Bildes. Die Lichtquelle ist ein U/V Excimerlaser mit hoher Auflösung und langer Lebensdauer, der einen scharfen Fokus und eine hohe Intensität für präzise Bildgebung bietet. CALITECH CT-605 verwendet auch ein automatisches Photoresist-Ladesystem, das das sorgfältige Laden von Fotolack auf das Spannfutter automatisiert und eine einfache, fehlerfreie Anwendung ermöglicht. CT-605 verfügt auch über eine automatische Run-to-Run-Steuereinheit, die eine engmaschige Überwachung der Ergebnisse ermöglicht und es Anwendern erleichtert, präzise und einheitliche Ergebnisse zu wiederholen. CALITECH CT-605 verfügt auch über eine proprietäre, benutzerfreundliche Autofokus-Software, um sicherzustellen, dass jede Anwendung das gewünschte präzise Muster oder Bild erhält. Der Photoresist Controller und der Pattern Generator ermöglichen es Benutzern, den gesamten Photolithographie-Prozess von der Maskenanwendung bis zur Entwicklung der Photoresist-Schicht zu steuern. Benutzer können den Prozess auch überwachen, um eine präzise Ausrichtung und Aufbringung der Photolackschicht zu gewährleisten. CT-605 Photoresist Machine ist eine äußerst präzise, effiziente und benutzerfreundliche Lösung für die Photolithographie. Mit seiner hohen Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit ist es ideal für Anwendungen von Leiterplatten bis hin zur Lithographie und darüber hinaus. Ob Sie schnell und einfach präzise Ergebnisse benötigen oder komplexe Muster und Bilder, CALITECH CT-605 hat Sie abgedeckt.
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