Gebraucht CANON CDS-630 #9269121 zu verkaufen

CANON CDS-630 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für den industriellen Einsatz. Es kombiniert die neueste Standardbildtechnologie und Master-Fertigungswissen, um erweiterte Fähigkeiten in der Bildgebung und Herstellung von Resist-Substraten für den Einsatz in industriellen Anwendungen bereitzustellen. Das System ist in der Lage, eine breite Palette von Substrattypen zu verarbeiten, darunter Acrylsäure, Polyimide, Polyester, Epoxide und mehr. CDS-630 verwendet eine digitale Abbildungseinheit zur Erzeugung der gewünschten Photolackmuster oder -bilder. Diese besteht aus einem hochauflösenden linearen variablen Dispersionsspektrometer in Kombination mit einem optischen Polarisationsmikroskop zur Erzeugung sowohl sichtbarer als auch ultravioletter Bilder des Substrats zur genauen Strukturierung. Die bildgebende Maschine ist in der Lage, verschiedene Bildgrößen, von Zoll bis Mikron, je nach Substrat und Anwendungsanforderungen zu produzieren. Zur Abscheidung des Photolacks verwendet CANON CDS-630 eine Sol-Gel-Lösung, die in einen gut gemischten Behälter abgegeben wird, aus dem sie über eine Feindüse in eine vertikale Spulkammer eingespritzt wird. Dadurch wird die Gleichmäßigkeit der Abscheidung auf dem Substrat und die Gleichmäßigkeit der Mustereinheitlichkeit gewährleistet. Danach wird das Substrat auf eine vorgegebene Temperatur erhitzt und ein Vakuum angelegt, um eventuell vorhandene überschüssige Resistflüssigkeit zu entfernen und einen Luftreinigungsvorgang zu erzeugen. Nach dem Aushärten des Fotolacks stehen Nachbackvorgänge zur weiteren Verbesserung des Bildes zur Verfügung. Dazu gehören Bestrahlung, Hochwasserbelastung und Galvanik. Danach stehen Etchback und Photo-Assist-Verfahren zur Verfügung, die eine weitere Reinigung und Aufbereitung des Substrats ermöglichen. Eine Vielzahl von Laborinstrumenten, wie Spin Coater, Säureätzer und Formen, stehen auch für die manuelle Verarbeitung zur Verfügung. Insgesamt ist CDS-630 Photoresist-Tool eine zuverlässige und leistungsfähige Abbildungs- und Verarbeitungslösung für industrielle Anwendungen. Dank seiner fortschrittlichen Bildgebungs- und Musterfunktionen ist es die ideale Wahl für die Herstellung komplexer Muster mit hoher Auflösung und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus bietet die breite Palette an Nachbackoperationen ein hohes Maß an Flexibilität und Anpassung, so dass eine breite Palette von Substrattypen für bestimmte Anwendungen ordnungsgemäß vorbereitet werden kann.