Gebraucht CANON CDS-650 #9111287 zu verkaufen

CANON CDS-650 ist ein Photoresist-Gerät, das zur Bildung von Dünnschichtmustern auf Halbleitern verwendet wird. Das System verfügt über eine überlegene optische Einheit, die hochauflösende Muster mit Submikrongenauigkeit erzeugen kann. Die Maschine verwendet eine neuartige Lösung für die Photolithographie, die auf einer einzigartigen Kombination von lang- und kurzwelligen UV-Lampen basiert. CDS-650 hat eine maximale Substratgröße von 300mmx300mm. Das Tool verwendet einen CeASTAR-300 Lithomasken-Aligner mit Durchlichtbildgebung und eine 1024 x 1024 Pixel CCD-Kamera mit einem 10-Bit-Dynamikbereich, um eine hochpräzise Ausrichtung von Photomasken zu ermöglichen. CANON CDS-650 verfügt über koaxiale LED-angetriebene Positionierungsköpfe, die eine Präzision von Sub-Mikron für eine genaue Ausrichtung bieten. CDS-650 verwendet fortschrittliche CANON LEXT OLS 4000 Laserscanning konfokale mikroskopische Technologie, um eine hervorragende Auflösung und Mustertreue zu bieten. Das Asset kann minimale Merkmalsgrößen von 0,25 Mikrometer erreichen, was bedeutet, dass es für mikroelektronische Anwendungen geeignet ist. Die Photolacklösung des Modells basiert auf Reagenzien, die die für die hochauflösende Bildgebung notwendigen hochreaktiven photoaktiven Verbindungen (PACs) enthalten. Diese PACs werden auf die Oberfläche des Substrats adsorbiert, was eine schnelle und gleichmäßige Bestrahlung des Photolacks ermöglicht. CANON CDS-650 nutzt dieses einzigartige Verfahren, um Dünnschichtmuster mit beeindruckender Auflösung zu bilden. Das Gerät verfügt auch über mehrere Funktionen zur Verbesserung der Benutzersicherheit. Ein automatisches Wafer-Ladesystem ermöglicht eine einfache und sichere Handhabung von Wafern. Eine Sicherheitsverriegelungseinheit verhindert eine UV-Belichtung außerhalb des Bearbeitungsbereichs von Photoresists. Darüber hinaus verfügt die Maschine über einen Sicherheitsmonitor zur Warnung von Bedienern, wenn die UV-Belichtungswerte außerhalb des akzeptablen Bereichs liegen. Um gleichbleibend hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten, verwendet CDS-650 einen programmierbaren Verschluss, um die UV-Belastung durch Wafer bei Bedarf zu verweigern. Dieser Verschluss dient auch der Minimierung von UV-Belichtungspegeln. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über eine eingebaute Abgasbelüftung und ein Abgassteuermodul, um eine sichere Ableitung gefährlicher Dämpfe zu gewährleisten. Insgesamt ist CANON CDS-650 ein zuverlässiges Photolackmodell, das Dünnschichtmuster mit erstklassiger Auflösung und Präzision bilden kann. Die überlegene optische Ausrüstung, die reagenzbasierte Photoresist-Lösung und die Benutzersicherheit machen dieses System zu einer Top-Wahl für anspruchsvolle Mikroelektronik-Anwendungen.