Gebraucht CANON CDS-650 #9111494 zu verkaufen

CANON CDS-650 Photoresist Equipment ist eine Spitzentechnologie für die Entwicklung hochauflösender Halbleiterscheiben. Das System kombiniert die Anwendung von Photoresist- (PR) und Lithographietechnologien, um PR-Filme mit variabler Dicke auf Halbleitersubstraten abzuscheiden. CDS-650 Photoresist Unit eignet sich besonders für Halbleiterproduktions- und Forschungs- und Entwicklungsanwendungen. CANON CDS-650 Photoresist Machine ist mit einer modularen Resiststation ausgestattet, die aus dem Spin/Developer Modul und dem Exposure Modul besteht. Das Spin/Developer Modul enthält einen Spin Coater mit motorisiertem Spin Coater und Bubbler und verfügt über digitale Temperatur-, RPM und Timer-Steuerungen. Das Belichtungsmodul beherbergt die photolithographischen Belichtungen, die vollständig eingeschlossen sind, um die Auswirkungen von Wärmeableitung und Umgebungstemperatur auf den Resist zu reduzieren. Die intuitive Software-Oberfläche von CDS-650 erleichtert die direkte Manipulation der Prozessparameter und ermöglicht es Benutzern, ihre Einstellungen einfach auszuwählen und genau anzupassen. Dadurch entfällt die Notwendigkeit externer Steuerungssysteme oder einer komplexen Einrichtung. Nachdem die gewünschten Parameter festgelegt wurden, lädt das Tool den Datensatz, konfiguriert automatisch alle Prozessparameter und verwaltet dann den gesamten Prozess für eine verbesserte Konsistenz zwischen Stapeln. CANON CDS-650 verfügt auch über eine Bildanalyse-Komponente, die die Notwendigkeit einer manuellen visuellen Inspektion von Resist-Profilen eliminiert. Dieses Modell erstellt eine Reihe von Bildern des Resists und analysiert automatisch die Höhe, Orientierung, Dicke und Gleichmäßigkeit des Resists, wodurch eine schnelle Bestätigung der Eigenschaften und eine verbesserte Kontrolle des gesamten Prozesses ermöglicht wird. Neben dem Spin/Developer Modul und dem Belichtungsmodul ist CDS-650 Photoresist Equipment auch mit einem Resist-Ready-Storage und einem speicherkompensierten Wafer-Transfer-System ausgestattet, was die Produktivität der Einheit erhöht. Diese Wafer-Transfermaschine ermöglicht optimale Widerstandsumverteilungs- und Abscheidungsstrategien sowie einen schnellen Neustart von Wafern und Speicherfächern, um den Durchsatz zu maximieren. CANON CDS-650 Photoresist Tool bietet einen überlegenen Durchsatz mit maximaler Foliendickendeckung und eine präzise genaue Waferproduktion, die höchsten Industriestandards entspricht. Mit seinen fortschrittlichen Technologien und der intuitiven Benutzeroberfläche ist CDS-650 Photoresist Asset ideal für die Herstellung hochauflösender Halbleiterscheiben.