Gebraucht CARL ZEISS ZBA 21 #9208417 zu verkaufen

CARL ZEISS ZBA 21 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Resistsystem mit einer branchenführenden Fokustiefe für Präzisionsbildgebung. Dieses Gerät optimiert eine breite Palette von Lithographieanwendungen von fortschrittlichen Substraten bis hin zu Spezialanwendungen und ist mit ausgewählten Belichtungswellenlängen kompatibel. Es verfügt über eine automatisierte Vision-Maschine basierend auf Computer-Vision-Technologie mit einer CCD-Kamera, die es sehr geeignet für F&E und Herstellung macht. Diese Funktion ermöglicht eine hochpräzise Ausrichtungssteuerung und automatisierte Fokusoptimierung. Darüber hinaus ist die Software in der Lage, sich intelligent auf Substrat- und Resisttyp, Schichtdicke und andere Funktionen einzustellen, die die Leistung des Werkzeugs beeinflussen können. ZBA 21 hat eine Prozessgeschwindigkeit von bis zu 650 Wafern pro Stunde, mit einer Wiederholgenauigkeit von 3 µm in XY-Richtung und einer feinen Steigungsfähigkeit von 15 µm auf 6 "Wafern. Sein Belichtungswellenlängenbereich liegt zwischen 157nm und 400nm, was das Asset für die Verbesserung der Geräteleistung, die Overlay-Registrierung und andere Produktionsanforderungen weiter optimiert. Darüber hinaus bietet das Photoresist-Modell eine bessere Gleichmäßigkeits- und Linienbreitenkontrolle mit seinen fortschrittlichen technologischen Fähigkeiten wie der abstimmbaren Spektrumfunktion, mit der Benutzer die richtige Belichtungswellenlänge für ihre spezifischen Anforderungen auswählen und anpassen können. Seine dynamische Bildgebungstechnik ermöglicht es Anwendern auch, Bildgebungsmodi von tiefen bis zu flachen Tiefen zu optimieren. CARL ZEISS ZBA 21 kombiniert hochpräzise Bildgebungstechnologie und automatisierte Funktionen, um Anwendern eine hervorragende Photolithographie-Leistung mit gezielten Funktionen zu bieten. Das Design der Software-Schnittstelle, die Datenanalyse und die Selbstdiagnose ermöglichen es Anwendern, ihren Workflow zu optimieren und Entscheidungen vertrauensvoll zu treffen. Dies macht es eine große Auswahl für eine breite Palette von Engagements.