Gebraucht CEE 100 #293818775 zu verkaufen

CEE 100 ist eine ultrahochleistungsfähige Flüssigfotoresistausrüstung, die eine Fein- und Hochpräzisionsmusterung in der Mikrofertigung ermöglicht. Er ist bei den Herstellern integrierter Schaltungen (IC) wegen seiner extrem hohen Auflösung und der hohen Gleichmäßigkeit bevorzugt, die es ermöglicht, fein detaillierte und genau beabstandete Muster für Schaltungen zu erzeugen. Das Photolacksystem besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Photolackentwickler und unlöslichen Komponenten, die einen dünnen Materialfilm bilden sollen, der als Maske für die Photolithographie wirkt. Es wird aus einer Vielzahl von Lichtquellen, wie UV-, Röntgen- und Elektronenstrahlbelichtung entwickelt. Zur Belichtung des Resists wird eine dieser Lichtquellen verwendet, die von einer gemusterten Chrommaske oder einer Reihe von Diffusionsmasken auf die Resistbeschichtung reflektiert wird. Der Photolack ist so ausgelegt, dass er dem Lichtstrahl ausgesetzt wird, und je nachdem, ob er einem starken Licht oder einem schwachen Licht ausgesetzt ist, wird er entweder vernetzt oder zerlegt bzw. aufgelöst. Dies ermöglicht Bildschärfe und Genauigkeit bei der Erstellung des gewünschten Musters. Nach der Belichtung wird der belichtete Resist dann mit einer Entwicklerlösung in Kontakt gebracht, die je nach Belichtung mit dem Lichtstrahl entweder die belichteten Bereiche des Photoresists oder die unbelichteten Bereiche abstreift. Dies ermöglicht drastische Änderungen in Form und Größe der Muster, die mit der Photolackeinheit gedruckt werden. Die Gleichmäßigkeit und Auflösung von 100 Maschinen machen es ideal für Mikrofabrikationsanwendungen. Es ist in der Lage, Muster mit Größen bis zu 0,1 µm zu produzieren, so dass es sehr gut für die IC-Produktion geeignet ist. Darüber hinaus entfällt aufgrund ihrer Konsistenz und Qualität die Notwendigkeit von Post-Lithographie-Prozessen oder zusätzlichen Resistschichten, was sie zeit- und kosteneffizient macht. Darüber hinaus ist das Photoresist-Werkzeug temperatur- und feuchtigkeitstolerant, was bedeutet, dass es in einer Vielzahl von Umgebungen ähnlich funktioniert. Dies macht es für eine Vielzahl von Anwendungen und Branchen geeignet. Insgesamt ist CEE 100 ein idealer Photoresist für IC-Hersteller. Es ist zuverlässig, präzise, konsistent und effizient, so dass Hersteller sehr detaillierte und präzise Muster für ihre Produkte produzieren können. Mit seiner ultra-hohen Leistung ist es weiterhin eine beliebte Wahl bei vielen Herstellern.