Gebraucht CEE 150CB #9147039 zu verkaufen

CEE 150CB ist eine qualitativ hochwertige Photoresist-Photomasken-Ausrüstung zur Herstellung hochwertiger Mikrofotolithographie-Strukturen. Es handelt sich um ein zweiteiliges System bestehend aus einer Photolackemulsion und einer lichtempfindlichen Photolackemulsion. Die Photoresistemulsion enthält ein Gemisch aus Lösungsmitteln, Additiven, Bindemitteln und photoaktiven Verbindungen (PAC). Die lichtempfindliche Emulsion besteht aus vier verschiedenen lichtempfindlichen Materialien. Bei Belichtung reagieren diese Materialien mit dem PAC und bilden auf dem Substrat eine Photolackschicht. Die Photolackschicht dient als Maske für das Photolithographieverfahren. Nach der Belichtung wird in der Photolackschicht mittels einer Photolithographenmaschine eine geätzte Struktur erzeugt. Die Photolackschicht wird mit einem Lösungsmittel entfernt, wobei nur die geätzten Merkmale der gewünschten Struktur zurückbleiben. Die lichtempfindliche Emulsion von 150CB bietet eine hohe Empfindlichkeit, eine ausgezeichnete Haftung und eine außergewöhnliche Auflösung während des Photolithographie-Prozesses. Dies macht die Einheit für eine Vielzahl von photolithographischen Anwendungen geeignet, einschließlich Halbleiterbauelementherstellung, Lichtwellenleiterkommunikation und Dünnschichtmikrosensoren. Die Herstellung der Photolackschicht wird auch durch die hochwertige Emulsion der CEE- 150CB-Maschine erleichtert, da die Photolackschicht sehr gleichmäßig und fehlerfrei ist. Dadurch bleibt der Ätzmechanismus sauber und gewährleistet qualitativ hochwertige Ergebnisse. Schließlich sorgt die hochsensitive lichtempfindliche Emulsion 150CB Werkzeugs auch für geringe Betriebskosten, da nur eine geringe Belichtungszeit und Photoresist für den gesamten Photolithographieprozess benötigt werden. Dies macht es ideal für kleine Anwendungen, wo Budget ist eine wichtige Überlegung. Alles in allem ist CEE 150CB eine zuverlässige Photoresist-Photomaske, die hochwertige Ergebnisse zu einem erschwinglichen Preis bietet. Es eignet sich für eine Vielzahl von photolithographischen Verfahren und bietet eine vielseitige Lösung für mikrophotolithographische Strukturen.