Gebraucht CETC LXS-800 #9073945 zu verkaufen

CETC LXS-800 ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um die fortschrittlichsten Mikrofabrikationsprozesse zu unterstützen, die in Forschung und Entwicklung, Mikrochip-Produktion und anderen Industrien verwendet werden. Es ist ein vollautomatisches System zur Prozessstabilisierung und Gleichmäßigkeit mit Flexibilität zur Durchführung von Standard- und Spezialprozessen. Zu den Merkmalen gehören ein großer Wafer-Handling-Bereich (bis zu 8 Zoll), eine einheitliche Belichtungsquelle, eine Wahl zwischen einer Retikel- oder einer Stufen- und Wiederholbelichtungseinheit (sowohl für gleichmäßige Feldbelichtungen als auch für großflächige Musterbelichtungen) und eine Bildverarbeitung für die Fehlerinspektion. LXS-800 Photoresist-Maschine wird von einer hochintegrierten Werkzeugsteuerungsplattform mit Host-Computer, Asset-Level-Architektur und Software zur Überwachung und Steuerung aller Parameter des Photoresist-Modells angetrieben. Die Software ermöglicht die Überwachung einzelner Parameter sowie die Gesamtleistung der Geräte und kann verwendet werden, um verschiedene Prozessbedingungen zu erlernen und zu verstehen. Die einfach zu bedienende Software kann auch verwendet werden, um Rezeptparameter zu ändern, um die Leistung für Ertrag und Durchsatz zu optimieren. Mit dem vielseitigen Kammerdesign des Systems können Anwender zwischen nassen oder trockenen Verarbeitungsmethoden wählen, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen. Die abnehmbare Prozesskassette macht es einfach, das Gerät für unterschiedliche Prozessanforderungen neu zu konfigurieren und gleichzeitig eine optimale Isolierung der Umgebung zwischen den Prozessschritten zu gewährleisten. CETC LXS-800 wurde entwickelt, um hochzuverlässige Leistung bei minimalem Risiko einer Über- und Unterverarbeitung zu liefern. Die Präzisions-Photoresist-Maschine ist in der Lage, strengere Linienbreitenanforderungen und reduzierte Photomaskierfehler zu erreichen. Es bietet eine ideale Genauigkeit für spezifische Prozessanforderungen und liefert überlegene Ergebnisse für komplexe, hochdichte oder spezialisierte Photomaskierungs- und Photolithographieverfahren. Die hervorragende Leistung und benutzerfreundliche Oberfläche des Tools machen LXS-800 zu einer großen Wahl für Forschung & Entwicklung und Mikrochip-Produktionsanlagen. Die zuverlässige Ausstattung und der reibungslose Betrieb machen CETC LXS-800 auch zu einer kostengünstigen Lösung für Photolithographie-Anforderungen.