Gebraucht CHEMALUX 100 #9231353 zu verkaufen

CHEMALUX 100 ist eine branchenführende Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung von hochauflösenden Mustern mit Mikron-Genauigkeit. Das System kombiniert die Leistung von positivem Photolack mit Chemikalien, die mit einer Vielzahl von Bildsätzen, Laserdirektschreibern und Elektronenstrahlscannern kompatibel sind. Da die Verarbeitungsschritte vereinfacht, benutzerfreundlich und umweltfreundlich sind, sind solche Resistsysteme ein bevorzugtes Material für die Entwicklung hochauflösender Muster, die in verschiedenen elektronischen Anwendungen eingesetzt werden. 100 ist eine positive Photolackeinheit, die aus einem lichtempfindlichen Resist-, Entwickler- und Stripperlösungen besteht. Der lichtempfindliche Resist ist ein lichtempfindliches Material aus einem Gemisch von Chemikalien in Lösung, die bei Belichtung ein unlösliches polymeres Material bilden, das als Schutzschicht wirkt und ein weiteres Ätzen verhindert. Der Entwickler ist eine starke basische Lösung, die die belichtete lichtempfindliche Schicht löst, während der Stripper eine Nichtlösungsmittellösung ist, die die unbelichtete lichtempfindliche Schicht entfernt. Die Maschine wurde mit mehreren fortschrittlichen Funktionen entwickelt, die eine verbesserte Leistung, Genauigkeit und Effizienz im Musterprozess ermöglichen. Erstens weist der lichtempfindliche Resist des Werkzeugs eine niedrige Auflösungsrate auf, die während des Ätzprozesses stabil bleibt, was zu einer genauen Strukturierung auch bei hohen Temperaturen führt. Zweitens hat der Resist auch eine hohe Auflösung, die die Herstellung von Mustern bis auf wenige Mikrometer Größe ermöglicht. Beispielsweise eignet sich CHEMALUX 100 zur Herstellung von Mustern von 0,5 μ m X 1 μ m. Schließlich wird die Strukturierung des Resist Asset durch den Einsatz von Bildumkehrtechnologie optimiert, bei der ein positives Bild leicht in ein entsprechendes negatives Bild umgekehrt werden kann. Insgesamt ist 100 ein Hochleistungs-Photoresist-Modell, das die schnelle und präzise Herstellung von hochauflösenden Mustern für verschiedene elektronische Anwendungen erleichtert. Die fortschrittlichen Funktionen und der einfach zu bedienende Prozess führen zu einer genauen Musterung und ermöglichen es Benutzern, Muster mit Mikron-Genauigkeit zu produzieren, was es zur bevorzugten Wahl für Photolacksysteme macht.