Gebraucht CHEMALUX 100 #9246757 zu verkaufen

CHEMALUX 100 ist ein Photoresist-System von SAG Associates, das eine einheitliche Plattform für die Entwicklung komplexer integrierter Schaltungsmuster bietet. Sie setzt sich aus zwei Primärkomponenten zusammen: dem Bindemonomer und dem Härter bzw. Initiator. Bei Kombination in einem bestimmten Verhältnis reagieren Bindungsmonomer und Initiator schnell zu einem ausgehärteten Film nur wenige Augenblicke nach der Belichtung. Diese gehärtete Folie bietet eine verbesserte Barriere gegen chemischen Angriff und Feuchtigkeit, was 100 zu einem idealen Photolack für Halbleiteranwendungen macht. CHEMALUX 100 widersteht den Säuren und Laugen, die während der Lithographie verwendet werden, und bietet eine unübertroffene Auflösung während der Geräteherstellung. Der Fotolack kann auf die genauen Spezifikationen eines Projekts oder Geräts zugeschnitten werden, wodurch sehr kleine Merkmale einfach und präzise gemustert und geätzt werden können. Der Hauptvorteil von 100 ist seine Abscheidegeschwindigkeit. Es breitet sich schnell über ein Substrat aus, während es eine uniformierte Schicht aus Photolack bereitstellt, um dem Ätzen und der Nachbearbeitung zu widerstehen. CHEMALUX 100 ist stabil genug, um mit einem Elektronenstrahl gemustert werden, so dass extrem feine Merkmalsgrößen (so klein wie 50 nm) gebildet werden können. Dies bietet eine überlegene Isolierung sowie Dimensionsstabilität. Die Verarbeitbarkeit von 100 ist ausgezeichnet und ermöglicht eine einfache Bedruckung, Beschichtung und Abbildung des Fotolacks. Seine hohe Auflösung ermöglicht es, mit einer breiten Palette von Laser- und optischen Abbildungssystemen verwendet werden. Seine chemischen Eigenschaften und seine Benutzerfreundlichkeit machen ihn zu einem idealen Fotolack für Tiefätzen, Hochtemperaturbehandlungen und komplexe Masken. Zusammenfassend ist CHEMALUX 100 ein gut abgerundetes Photolacksystem, das auf verschiedene Bedürfnisse zugeschnitten werden kann. Seine hohe Auflösung, einfache Verarbeitbarkeit und gleichmäßige Abscheidung machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für alle Arten von Halbleiteranwendungen. Seine Stabilität und chemische Beständigkeit sind unmöglich zu schlagen, so dass es die erste Wahl für die Strukturierung und Geräteherstellung von integrierten Schaltkreisen ist.