Gebraucht CHEMALUX 300 #9253608 zu verkaufen

CHEMALUX 300 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die die Herstellung einer chemikalienbeständigen Beschichtung auf einer Vielzahl von Substraten ermöglicht. Das System besteht aus einem negativen Resist, üblicherweise einem polymeren Material, auf das ein positiver Photoresist aufgebracht ist. 300 ist eine mehrschichtige Einheit, wobei zuerst der negative Resist aufgebracht wird und dann der Photolack auf die negative Schicht aufgebracht wird. Der Photolack ist ein lichtempfindliches, lichtempfindliches Polymer, das nur reagiert, wenn es Strahlung im UV-C-Spektrum ausgesetzt ist. Dies ermöglicht eine präzise Strukturierung und Photolithographie. Die Photoresistmaschine CHEMALUX 300 besteht aus einem halbwässrigen Entwickler, einem chemischen Lösungsmittel und einer Vorsensibilisierungsschicht, die eine lichtempfindliche Verbindung enthält. Wenn dieses Werkzeug mit UV-Licht beaufschlagt wird, tritt eine lichtinduzierte Reaktion auf und es entsteht eine interaktive Resistschicht. Die Resistschicht dient als „chemischer Schild“, der die Substrate vor reaktiven chemischen Prozessen schützt. Die Resistschicht bietet auch eine hervorragende Basis für die Weiterverarbeitung. Durch Abdeckung bestimmter Bereiche der Substrate mit einem lichtsperrenden Material kann ein gewünschtes Muster erzeugt werden. 300 bietet ausgezeichnete Haftung und chemische Beständigkeit Eigenschaften, so dass es ideal für eine Vielzahl von Substraten wie Glas, Metall, Silizium und Diamant. Es bietet erhebliche Vorteile gegenüber herkömmlichen Metall-Maskierungstechniken und ermöglicht eine sehr präzise und komplexe Strukturierung. Darüber hinaus ist CHEMALUX 300 von Temperaturen bis 200 ° C unbeeinflusst, so dass es für eine Vielzahl von Anwendungen wie Ätzen und Abscheiden verwendet werden kann. Zur Verwendung des Photolackes wird das Substrat zunächst entweder mit einer Salzsäurelösung oder einem Lösungsmittel sensibilisiert. Dadurch wird das Substrat für den Photolack vorbereitet. Anschließend wird der Photolack aufgebracht und trocknen gelassen. Nach dem Aufbringen des Photolacks wird das Substrat mit einer Belichtungslichtquelle gemustert. 300 Resistmodell ist hochempfindlich und ermöglicht eine sehr präzise Strukturierung. Schließlich wird das Substrat in eine Entwicklerlösung eingetaucht, um das Verfahren abzuschließen. CHEMALUX 300 ist eine sehr vielseitige und zuverlässige Photolackausrüstung. Es ist schnell, effizient, kostengünstig und bietet ausgezeichnete Haftung und chemische Beständigkeit. Dank seiner hohen Empfindlichkeit gegenüber UV-Licht können 300 für eine Vielzahl von Prozessen eingesetzt werden, einschließlich Ätzen und Abscheiden. Das Photolacksystem wird üblicherweise bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, Flachbildschirmen und Photolithographie-Bauelementen eingesetzt.