Gebraucht CHEMCUT Stations for CC8000 series #9217526 zu verkaufen

ID: 9217526
Qty / Model / Description (2) / BLEF313 / Load / Conveyor drive stations (2) / PCSF3338 / Pre-treat stations (2) / PCRF301 / Single stage water rinse stations (2) / PIF3160 / Electroless copper etching stations (2) / PIF3110 / Electroless copper etching stations (2) / PISF310 / Inspection / Conveyor drive stations (2) / PCRF303 / 3-Stage water rinse stations (2) / PCSF348 / Activator stations (2) / PCRF302 / 2-Stage water rinse stations (2) / PISF310 / Inspection / Conveyor drive stations (2) / PIF390 / Electroless nickle etching stations (2) / PCRF302 / 2-Stage water rinse stations (2) / PCSF3018 / Anti-tarnish stations (2) / PCR302 / 2-Stage water rinse stations (2) / PPDF303 / Triple head dryer stations (1) / ALLEN-BRADLEY / Panelview 1000 / Input conveyor (1) / - / Cleaner station (1) / - / 2-Stage water rinse station (1) / - / Inspection / Conveyor drive station (1) / - / Electroless copper etching station (1) / - / 2-stage water rinse station (1) / - / Activator station (1) / - / 2-Stage water rinse station (1) / - / Inspection / Conveyor drive station (1) / - / Electroless nickel etching station (1) / - / Anti-Tarnish Station (1) / - / PCR302 / 2-Stage water rinse station (1) / - / PCR302 / 2-Stage water rinse station (1) / - / PPDF303 / Triple head dryer station (1) / - / PREF318 / Conveyor drive / Unload station (4) / - / 4-Stage water rinse stations (2) / - / Control cabinets (5) / - / Cleaning systems.
CHEMCUT-Stationen für CC8000 Serie ist eine Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um fein detaillierte Resistmuster in Substratoberflächen zu erstellen. Dieses System eignet sich für eine Reihe von Anwendungen, von der Schaffung nanoskopischer Merkmale für Halbleiter bis hin zu dekorativen Kunstmustern. Der Kern der Einheit ist der CC8000, ein Präzisionsspender, der mit genau getakteter Mikro-Dispense-Technologie eine breite Palette von Resistmaterialien auf ein Substrat aufbringt. Das CC8000 bietet einen außergewöhnlich detaillierten kontaminationsfreien Musterauftrag sowie einen schnellen partikelfreien Aufbau. Mit einer fortschrittlichen Mikro-Dispense-Technologie, die eine höhere Präzision bei der Platzierung von Resistmustern ermöglicht, bietet diese Maschine eine außergewöhnliche Musterreproduzierbarkeit. Das CC8000 ist mit zwei verschiedenen Arten von Stationen integriert, so dass Benutzer ihr Werkzeug an ihre individuellen Anwendungsanforderungen anpassen können. Die manuelle Station ermöglicht die manuelle Bedienung des Spenders mit einer intuitiven Benutzeroberfläche, die eine einfache Einrichtung und Kontrolle der Prozesse bietet, die auf Substraten angewendet werden. Die automatisierte Station hingegen bietet ein integriertes Setup, das die Prozesse des CC8000 optimieren soll. Einer der Vorteile von Stations for CC8000 series ist seine Verträglichkeit mit verschiedenen Resisttypen, sowohl aus organischen als auch aus anorganischen Materialien. Die Anlage ist auch so konzipiert, dass sie mit einer Vielzahl von Substraten kompatibel ist, von herkömmlichen Glas oder Wafern bis hin zu nanogrierenden oder zusammengesetzten Halbleiteroberflächen. Durch die Verwendung eines bildbasierten Mapping-Modells kann die CC8000 auch Oberflächenfehler erkennen, was eine präzise Musterkontrolle ermöglicht. CHEMCUT-Stationen für CC8000 Serie verfügen zudem über eine integrierte Überwachungsausrüstung, die es Anwendern ermöglicht, jeden Schritt des Prozesses zu überwachen. Dieses System ermöglicht eine detaillierte Analyse und Überwachung jedes Mikro-Dispense-Prozesses, während es stattfindet. Darüber hinaus kann das Gerät detaillierte Berichte erstellen, um Prozesse zu verfolgen und die betriebliche Effizienz und Genauigkeit zu verbessern. Insgesamt bietet Stations for CC8000 series eine zuverlässige und hochpräzise Photolackmaschine für eine Vielzahl von Anwendungen. Durch die Bereitstellung genauer und wiederholbarer Muster ermöglicht dieses Tool es Benutzern, schnell und einfach fein detaillierte Widerstandsmuster auf verschiedenen Oberflächen zu erstellen. Die benutzerfreundliche Oberfläche, kombiniert mit dem integrierten Monitoring-Asset, sorgt dafür, dass jeder Prozess optimiert wird, um qualitativ hochwertigste Muster und Substrate zu produzieren.
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