Gebraucht CIBA GEIGY CLD 3 #94697 zu verkaufen

CIBA GEIGY CLD 3 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von der CIBA GEIGY Corporation entwickelt wurde. Es handelt sich um einen negativ wirkenden Photolack, d.h. es können unbelichtete Bereiche entfernt werden und belichtete Bereiche verbleiben, wodurch die Erzeugung von Mustern im Photolack durch selektives Belichten und anschließendes Wegätzen der unerwünschten Teile ermöglicht wird. Dieses System ist speziell für die Herstellung von feinen, komplizierten und hochgenauen Mustern ausgelegt, wie sie in integrierten Schaltungskonstruktionen vorkommen. Es arbeitet, indem es auf die Oberfläche des Substrats einen dünnen Film aus lichtempfindlichem Material beschichtet. Dieser Film wird dann selektiv Licht ausgesetzt, das das belichtete Material zersetzt und das unbelichtete Material unbeeinflußt lässt. Das belichtete Material wird dann mit einem chemischen Lösungsmittel, Ätzverfahren oder einem anderen Verfahren entfernt. Der verbleibende Teil des Photolacks wirkt als Maske zum weiteren Ätzen oder Verarbeiten. Bei CLD 3 besteht der Photoresist aus einer neuartigen Formulierung, die ihn mit minimaler Nachbelichtungsverschiebung und starker Ätzbeständigkeit hochstabil macht. Bei korrekter Belichtung und Entwicklung bietet die CIBA GEIGY CLD 3 Photolackeinheit eine hervorragende Auflösung und eine einfache Verarbeitung. Die erreichbare Mindesteigenschaftsgröße ist von der verwendeten Ausrüstung abhängig, kann aber bis zu 0,25 Mikrometer groß sein. Es weist auch einen hohen Kontrastdruck auf, was bedeutet, dass die Photolackschicht stärkeren Ätzlösungen unterworfen werden kann, was zu zuverlässigeren Ätzergebnissen führt. Diese Maschine bietet auch eine Reihe von Flexibilität, da sie mit vielen verschiedenen Substraten verwendet werden kann, einschließlich Glas, Metall, Kunststoff und Halbleitermaterialien. Kurz gesagt, ist das Photoresist-Tool CLD 3 ein Industriestandard für die Erstellung feiner, komplizierter und hochgenauer Muster für integrierte Schaltungen und andere anwendungsspezifische Geräte. Es ist zuverlässig, stabil und in der Lage, Merkmale so klein wie 0,25 Mikrometer in der Größe zu produzieren, kann auf einer Reihe von Substraten verwendet werden, und bietet einen ausgezeichneten Kontrast und Ätzbeständigkeit.