Gebraucht CLEAN AIR PRODUCTS CAP1411-636-36H #293592370 zu verkaufen

CLEAN AIR PRODUCTS CAP1411-636-36H Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches und effizientes Werkzeug zur Erstellung von Photomasken und anderen Photolithographie-Projekten. Es basiert auf einem Top-Down-Musteransatz und verwendet einen ausgeklügelten Photolack, der speziell für diese Anwendung entwickelt wurde. Die Benutzeroberfläche ist intuitiv und einfach zu bedienen und ermöglicht eine schnelle und präzise Einrichtung der Photolack-Anwendungsparameter. Das System ist auf einer Sechs-Punkt-Single-Die-Plattform aufgebaut und verfügt über ein hocheffizientes Drei-Kiefer-Spannfutter für zuverlässige Spritzfutter und Positionierung. Das Gerät verwendet eine Dioden-Array-Beleuchtungslichtquelle mit naher Laserfleckgröße und einen integrierten optischen Strahlprofilgenerator für optimale Dosisgleichförmigkeit. Ein eintauchbarer LED-Controller und eine mehrstufige In-situ-Backkammer sorgen für zuverlässige und wiederholbare Leistung. Darüber hinaus ermöglichen die einstellbare Belichtungszeit und erweiterte Belichtungssteuerungsparameter eine Feinabstimmung der Anwendung. Die eingebaute Resist-Einheit ist mit individuellen stufentemperaturgesteuerten Resist-Einheiten ausgestattet, die ein temperaturgesteuertes Aufbringen des Photolacks ermöglichen. Zusätzlich ist die Resisteinheit mit einem eingebauten Spin-Coat-Lauf ausgestattet, der eine gleichmäßige Schicht aus Photolack erzeugt. Die Maschine kann eine Reihe von Substraten von bis zu 6-Zoll-Größe handhaben, und die hochpräzise Maske Ausrichter ermöglicht die Produktion von großen Mengen von Photomasken und Photomasken mit genauen Merkmalsgrößen. Darüber hinaus ist das Tool mit fortschrittlichen digitalen Bildverarbeitungs- und Fehlererkennungsfunktionen ausgestattet und bietet qualitativ hochwertige Muster mit wiederholbaren Ergebnissen. Die Anlage verfügt auch über eine zweistufige Post-Exposure-Backe, die Resistschwellungen und Korrosion beseitigen hilft und die Rückfederung und Haftung von exponierten Funktionen verbessert. Darüber hinaus bietet das Modell Funktionen wie einen Quarzkristallsensor zur Echtzeitüberwachung, eine einfarbige CAL-CD-ROM und ein Mehrbenutzer-Computersteuergerät mit Passwortschutz und Audit-Protokollen. CAP1411-636-36H Photoresist-System bietet eine schnelle und effiziente Plattform zur Erstellung hochpräziser Photomasken für eine Reihe von Lithographieanwendungen. Seine intuitive Benutzeroberfläche, erweiterte Belichtungssteuerungsparameter und digitale Bildverarbeitungsfunktionen machen es zu einer idealen Wahl für jedes Photolithographieprojekt.