Gebraucht CND PLUS CIE-2C02(04)-C #9223039 zu verkaufen

CND PLUS CIE-2C02 (04) -C ist ein Photolacksystem auf Basis der für das Photolithographieverfahren entwickelten positiven CIE-2C02 (04). Es bietet überlegene Ätz- und Chemikalienbeständigkeitseigenschaften gegenüber konventionellen positiven Photoresists und ermöglicht eine präzise und gleichmäßige Strukturierung von Schaltungsmustern mit niedrigen Fehlerraten. Der Resist basiert auf einer Mischung aus drei Komponenten - einem vernetzbaren Polymer, einem Licht- und Sauerstoffblocker und einer photoaktiven Verbindung (PAC). Die Mischung wird mit anderen photochemisch und thermisch stabilen Verbindungen zu einer strahlungsempfindlichen Emulsion kombiniert. Bei Belichtung mit Licht oder Strahlung wandelt die Emulsion die Energie in ein latentes Bild um. Das Lichtblockmittel reduziert die Bildung unerwünschter Hintergrundbilder, während das PAC die Haftung des Resists erhöht. Das vernetzbare Polymer trägt dazu bei, den Resist vor photokatalytischem Abbau zu schützen und seine Stabilität zu verbessern. Bei Belichtung wird das latente Bild durch den PAC verstärkt, der die Polymerisation des Resists initiiert. Das verstärkte Bild hilft, ein hochauflösendes Muster mit genauen und präzisen Linienbreiten zu erzeugen. Beim Nachbelichtungsbacken (PEB) hilft die erzeugte Wärme unterhalb oder oberhalb des Schmelzpunktes des Resists, das latente Bild weiter zu verstärken, was zu einer besseren Auflösung führt. CND PLUS Resist zeichnet sich durch hervorragende Resist- und Ätzeigenschaften mit Beständigkeit gegen basische und saure Ätzchemie aus. Es verfügt auch über eine verbesserte Naßätzung und Filmhaftung auf zahlreichen Substraten, mit minimaler Hintergrundschräge und niedrigen Defektraten. Der Resist ist kompatibel mit Standard-Photoresist-Verarbeitung, einschließlich Antireflexbeschichtung, Post-Exposure-Backen und Post-Development-Backen. Es bietet außerdem eine verbesserte Haltbarkeit und Lagerstabilität gegenüber herkömmlichen Photoresists, was eine längerfristige Lagerfähigkeit ermöglicht. Zusammenfassend ist CND PLUS CIE-2C02 (04) -C ein positives Photoresist-System, das eine hohe Auflösung, Präzision und Gleichmäßigkeit für Lithographieverfahren ermöglicht. Mit seinen hervorragenden Ätz-, Haft- und Speichereigenschaften bietet der Resist eine zuverlässige Alternative zur Herstellung von Schaltungsmustern mit minimalen Fehlerraten.