Gebraucht CND PLUS CIE-2C3D02(04)-2 #9144079 zu verkaufen

CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für UV (Deep UV) -Belichtungsanwendungen. Dieses System bietet herausragende Leistung und erweiterte Funktionen, um lithographische Prozesse in kritischen UV/Photolithographie-Anwendungen einfach und effizienter zu machen. Die Photolackeinheit CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 besteht aus einem UV-empfindlichen Photopolymer, das hochreaktiv auf UV-Strahlung reagiert und für die ultraauflösende Bildgebung ausgelegt ist. Die beiden Komponenten dieser Maschine, ein alkalilöslicher Photoresist und ein organischer Lösungsmittelentwickler, erzeugen ein extrem langlebiges, hochauflösendes Bild. Der Photolack ist so formuliert, dass er eine ausgezeichnete Haftung auf dem Substrat aufweist und sowohl säure- als auch basenreinigungsbeständig ist. Der Entwickler bietet die optimalen Belichtungsbedingungen und einen hohen Kontrast zwischen belichteten bestrahlten und unbelichteten Bereichen und eignet sich somit für Anwendungen mit tiefer UV-Lithographie. CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 Photoresist-Tool verfügt auch über eine breite Palette von anderen Eigenschaften, die es eine ideale Wahl für fortgeschrittene Lithographie-Anwendungen, einschließlich hoher Transparenz, niedrige Stripping-Rate, außergewöhnlich niedrige Empfindlichkeit für Säure und Base, und hohe Empfindlichkeit für alle Wellenlängen von UV - licht. Es kann leicht gemischt und direkt auf das Substrat aufgetragen werden, was den bildgebenden Prozess einfach und effizient macht. Darüber hinaus bietet CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 Photoresist Asset einen hervorragenden Ätzwiderstand und eignet sich somit für den Einsatz in einer Vielzahl von direkten bildgebenden Lithographieverfahren. CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 Photoresist-Modell ist die perfekte Wahl für Anwendungen, die hohe Auflösung und robuste Zuverlässigkeit in qualitativ hochwertigen UV-Tiefenlithographie-Anwendungen erfordern. Seine hohe Benutzerfreundlichkeit, schnelle Belichtungszeit und ausgezeichnete Bildauflösung machen es zu einer idealen Wahl für den Einsatz in einer Vielzahl von DUV-Lithographieanwendungen, von der Halbleiterherstellung über MEMS und Mikroelektronik.