Gebraucht CND PLUS CIE-3C02(04)-C #293642075 zu verkaufen

CND PLUS CIE-3C02 (04) -C ist eine Photolackanlage bestehend aus einem Photolack und einem Entwickler, die für die Herstellung elektronischer Bauelemente formuliert ist. Es eignet sich besonders für fortschrittliche lithographische Verfahren wie direkte Schreiblaser-Photolithographie, E-Strahl-Direktschreiblithographie und andere präzise lithographische Verfahren. Das Photolacksystem besteht aus einem polymeren Substrat und einer lichtempfindlichen aktiven Schicht. Diese Schicht wird optisch entweder durch synthetisch erzeugtes UV-Licht oder Elektronen ausgelöst. Bei entsprechender Strahlenbelastung findet eine chemische Reaktion statt, die die Molekülstruktur des Polymersubstrats verändert. Diese Reaktion führt zu einer molekularen Verschiebung des Polymerfilms, wodurch Reliefstrukturen im Film entstehen. Die Reliefstrukturen werden dann in der entsprechenden Lösungsmittellösung entwickelt. Der auf die Photorezeptorschicht aufgebrachte Entwickler ist eine 3-Komponente, die Diethylenglykolmonobutylether, t-Butylmethylether, Propylenglykol und ein Tensid enthält. Dies ermöglicht die volle Entwicklung bei zuverlässiger Entfernung der gesamten Resistschicht. Da der Entwickler in Wasser unlöslich ist, löst er keine unerwünschten Rückstände auf. Die Photolackeinheit bietet eine hohe Empfindlichkeit und eignet sich daher zur Strukturierung von Eigenschaften mit hohem Seitenverhältnis. Es ist auch beständig gegen thermischen Schock, so dass es ideal für Gewebe, die erhöhte Glühtemperaturen. Die Photoresist-Maschine wurde entwickelt, um präzise und gleichmäßige Musterreplikation und hochauflösende Funktionen mit lithographischen Prozessen bereitzustellen. Die Resistschicht verleiht ausgezeichnete Haftung auf dem Substrat und chemischen Widerstand, so dass das Substrat sauber von chemischen Verunreinigungen bleiben. Die mit CND PLUS CIE-3C02 (04) -C aufgebaute Photolackschicht bleibt über eine breite Palette chemischer und mechanischer Belichtungen sowie thermische und Strahlungsbelichtungen stabil. Die molekulare Verschiebung im Substrat ermöglicht auch eine genaue und wiederholbare Musterreplikation, wodurch konsistente Ergebnisse aus identischen Verfahren in der Fertigung gewährleistet werden. Das Photolackwerkzeug von CND PLUS CIE-3C02 (04) -C ist sehr wirtschaftlich und somit eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Herstellungsvorgängen für elektronische Komponenten. Seine hervorragende Leistung in lithographischen Prozessen, kombiniert mit seinem chemischen und mechano-chemischen Widerstand, Klebstoff und Strahlungsstabilität macht es zu einem idealen Photoresist-Asset für die Herstellung elektronischer Geräte.