Gebraucht CND PLUS CIE-3D02(04)-C #9223035 zu verkaufen

CND PLUS CIE-3D02 (04) -C Photolackausrüstung ist ein vielseitiges und zuverlässiges System zur Herstellung moderner Leiterplatten und anderer fortschrittlicher elektronischer Substrate für die Halbleiterindustrie. Diese fortschrittliche Photolithographie verwendet Licht, um ein chemisches Bild auf eine Reihe von Silikon-basierten Resists zu übertragen. Die flexible Zusammensetzung dieses Photolacks ermöglicht es, einer Vielzahl von Lösungsmitteln, Temperaturen und Ätzmitteln standzuhalten. Dieses Gerät wurde speziell entwickelt, um überlegene Auflösung und Ergebnisse für die Produktion von Leiterplatten zu bieten. CND PLUS Photolackmaschine beginnt mit einem Substrat, das mit einem grau pigmentierten Primer beschichtet ist, der eine chemische Reaktion mit dem Photolack nutzt. Dieser Primer hilft, Nebenwirkungen mit dem Photoresist zu reduzieren und gleichzeitig eine glattere Oberflächengüte zu erzielen. Das Substrat wird dann mit der entsprechenden Wellenlänge von Licht einer Photolithographiemaschine belichtet. Dieses Licht aktiviert Photoinitiatoren im Resist und ermöglicht die Erzeugung des gezielten Schaltungsmusters. Die Intensität des Lichts bestimmt die Tiefe des erzeugten Musters und ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schaltungsabmessungen. Nach der Belichtung wird das Substrat einem Entwicklungslösungsmittel ausgesetzt, um überschüssige Photoresist zu entfernen, die nicht dem Licht ausgesetzt wurden. An diesen Prozess schließt sich ein Nachbacken bei genau kontrollierter Temperatur an, um die Oberfläche weiter zu härten und eine dauerhafte Oberflächengüte zu schaffen. In diesem Stadium kann ein Lösungsmittel oder ein chemisches selektives Ätzen verwendet werden, um ein erforderliches Schaltungsmuster zu erzeugen. CND PLUS-Werkzeug ermöglicht die Abbildung von größeren Schaltungen zusammen mit den komplizierten Details von kleineren. Schließlich wird nach Erreichen des gewünschten Ergebnisses die verbleibende Resistschicht durch eine entsprechende chemische Wäsche abgezogen. Dieses Verfahren hinterlässt ein fertiges Substrat mit einer präzise geätzten Oberfläche. Diese Photolithographie ist besonders nützlich für Spezialanwendungen wie Mikrofluidik oder Leiterplatten. Darüber hinaus ist es aufgrund seiner überlegenen Auflösung und Genauigkeit eine zuverlässige Wahl für hochwertige Produktionsanwendungen. CND PLUS Photolackmodell ist eine effektive Lösung für verschiedene substratbasierte Anwendungen. Seine vielseitigen Fähigkeiten, zuverlässige Leistung und präzise Auflösung machen es zu einer bevorzugten Wahl unter den Herstellern für die Produktion von empfindlichen Leiterplatten.