Gebraucht CND PLUS CIE-4D02(04)-C #9267215 zu verkaufen

CND PLUS CIE-4D02 (04) -C ist eine hochmoderne Photoresistausrüstung, die von CND (Coating and Developing Inc.), einem führenden Anbieter von Photochemie-Materialien und -Lösungen für die industrielle Herstellung von Halbleitern und anderen integrierten Schaltungen, entwickelt wurde. Das Photolacksystem CND PLUS ist speziell für den Einsatz in photolithographischen Direktschreibverfahren zur hochpräzisen Erstellung integrierter Schaltungen und anderer mikroelektronischer Komponenten konzipiert. Dieses Gerät verwendet eine proprietäre, hartgebackene lithographische Photoresist-Beschichtung sowie die fortschrittliche vierschichtige Abscheidungstechnologie (4D02) von CND, um Funktionen mit einer außergewöhnlich hohen Auflösung und Homogenität der Funktionen zu schaffen. Die CND- 4D02-Beschichtung besteht aus vier unterschiedlichen Filmschichten, die speziell für die Interaktion mit herkömmlichen Photolithographieverfahren entwickelt wurden. Die vier Schichten sind so konzipiert, dass sie mit den photolithographischen optischen Elementen in der Projektionsmaschine interagieren und diese modulieren, um die vom Designer gewünschten präzisen Merkmale im fertigen Produkt zu erhalten. Die erste Schicht in der 4D02 Beschichtung ist eine UV-blockierende Schicht. Diese Schicht trägt dazu bei, die zur Erzeugung kleinteiliger Details erforderliche Gleichmäßigkeit im lithographischen Prozess zu schaffen und kann auch eine Überbelichtung des Resists und eine Kontamination des darunterliegenden Siliziumwafers ausschließen. Die zweite Schicht ist eine hartgebackene UV-absorptive Schicht, die dazu beiträgt, die Fokustiefe und die kritischen Abmessungen (CD) zu reduzieren, die für einen akzeptablen Druck erforderlich sind. Diese chemische Schicht sorgt für mehr Präzision und Genauigkeit und trägt zur Steigerung der Ausbeute bei. Die dritte und vierte Schicht sind eine Photolackschicht bzw. eine UV-gesteigerte Ätzstoppschicht. Diese Schichten wirken zusammen, um den zugrunde liegenden Siliziumwafer vor potenzieller Überbelichtung und chemischem Angriff zu schützen. Gemeinsam sorgen sie für hochwertige Drucke mit schärferen Merkmalsgrenzen und höherer Auflösung als bei herkömmlichen Photolithographieverfahren. CND PLUS CIE-4D02 (04) -C Photolackwerkzeug ist ideal für hochdichte, ultrafeine Details und komplexe dielektrische Schichten, die bei der Herstellung fortgeschrittener Halbleiter- und Mikroelektronikbauelemente verwendet werden. Seine hart gebackene UV-absorptive Schicht verbessert die Auflösung und reduziert die CD, die erforderlich ist, um einen akzeptablen Druck zu erzielen, während seine vierschichtige Beschichtung die lithographische Gleichmäßigkeit und Tiefenschärfe verbessert. Die reduzierten CD-Spezifikationen ermöglichen eine höhere Ausbeute bei komplexeren Mustern, während die Schutzschichten eine verbesserte Wiederholbarkeit und längere Lebensdauer gewährleisten.