Gebraucht COBURN Stratum #9244709 zu verkaufen

COBURN Stratum ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine Kombination aus fortschrittlicher Optik und lithographischen Techniken verwendet, um hochwertige, dreidimensionale Strukturen auf einem Substrat zu schaffen. Es wurde für zahlreiche Anwendungen in Halbleiter- und mikro-elektromechanischen Bauelementen (MEMS) eingesetzt. Das System besteht aus zwei Hauptkomponenten, dem Beleuchter und der Mustereinheit, die jeweils eine wichtige Rolle bei der Erzielung der gewünschten Ergebnisse spielen. Zunächst stellt der Beleuchter dem Substrat eine gleichmäßige Belichtung mit Licht einer bestimmten Wellenlänge zur Verfügung. Diese Wellenlänge kann je nach Art des verwendeten Photolacks von UV bis Grün sein. Das Licht muß gleichmäßig sein, um ein zuverlässiges Mittel zur Erzeugung des gewünschten Musters zu schaffen. Der Beleuchter kann auch verwendet werden, um die Belichtung entsprechend dem im Muster erforderlichen Detaillierungsgrad zu modifizieren. Zweitens enthält die Mustereinheit eine Schablone, eine Maske, Mikrolinsen und eine Ausrichteinheit. Die Schablone wird verwendet, um das Muster auf ein Substrat zu zeichnen, das mit Licht aus dem Beleuchter belichtet wurde. Mit der Maske wird das gewünschte Muster auf die Substrat- oder Substratoberfläche übertragen. Eine Mikrolinse wird über dem Muster platziert, um die Größe von Merkmalen auf dem resultierenden Muster zu verringern. Die Ausrichtmaschine gewährleistet die Genauigkeit der Maskenplatzierung und des endgültigen Substrats. Sobald die Maske vorhanden ist, wird das Substrat mit Licht belichtet. Dies geschieht entweder mit einem Laser oder einer Hochwasserbelichtungstechnik. Nach der Belichtung wird der überschüssige Photolack mit einem Entwickler entfernt. Der Entwickler enthält Chemikalien, die den Photolack vom Substrat entfernen, aber das gewünschte Muster intakt lassen. Zur Fertigstellung des Verfahrens kann das Muster durch eine Ätz- oder Abscheidetechnik weiter modifiziert werden. Stratum ist ein leistungsstarkes und vielseitiges Photomasken-Tool. Es wurde in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, darunter Halbleiterbauelemente, MEMS-Bauelemente und optoelektronische Bauelemente. Es ist kostengünstig und hat eine kurze Wendezeit, was bei kostensensiblen Projekten ein großer Vorteil ist.