Gebraucht COMET CDH-5010 #9223055 zu verkaufen

COMET CDH-5010 ist eine Photoresist-Ausrüstung für effiziente Nassentwicklungs- und Streifenanwendungen. Das System umfasst zwei Hauptkomponenten: den Fotolack und den Entwickler. Der Photolack ist ein lichtempfindliches Material, das während des Lithographievorgangs auf das Substrat aufgebracht wird. Durch die Belichtung des Photolacks mit UV-Licht können bestimmte Bereiche des Substrats aktiviert werden, die dann zu dem gewünschten Muster entwickelt werden. Der Entwickler entfernt dann das unerwünschte Photolackmaterial vom Substrat und hinterlässt das gewünschte Muster. CDH-5010 Photolackeinheit eignet sich besonders gut für Chip-on-Glass (COG) -Substrate. Seine fortschrittliche Beschichtungstechnologie bietet eine genaue Kontrolle über die Dicke und Gleichmäßigkeit des Photolacks auf dem Substrat. Diese Steuerung sorgt für High-Fidelity-Muster mit detaillierten Funktionen für eine breite Palette von Substraten. Neben seiner Präzision bietet die Photolackmaschine COMET CDH-5010 eine hervorragende Nassentwicklung und Bandleistung. Der Entwickler verwendet eine leistungsstarke, wenig schäumende Tensidformulierung, die eine gleichmäßige Schichtdicke gewährleistet und gleichzeitig die empfindlichen Unterschichten vor Abbau schützt. Darüber hinaus minimiert der effiziente Bandkreislauf Schäden an umgebenden Substraten oder einen überschüssigen Verbrauch an Entwicklerchemikalien. Das Tool umfasst einen robusten und benutzerfreundlichen Entwickler-Nachfüllprozess, der eine kontinuierliche Produktions- und Kosteneinsparung gewährleistet. Die hohe Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit, die mit CDH-5010 erreicht werden kann, macht es zu einem wertvollen Werkzeug für nassentwickelte Photolackanwendungen. Insgesamt ist COMET CDH-5010 Photoresist Asset eine ideale Wahl für präzise, hochauflösende Muster mit sauberen Kanten und hoher Treue, was es zu einer idealen Wahl für Chip-on-Glass-Substrate macht. Seine hervorragende Leistung bei Nassentwicklungs- und Bandanwendungen sorgt für schnelle Zyklen und minimale Beschädigungen des Substrats. Das Modell bietet auch einen Nachfüllprozess für eine kostengünstige Produktion und die Möglichkeit, Gewinne zu maximieren.