Gebraucht CONVAC 6000 #26871 zu verkaufen

CONVAC 6000 ist eine Hochleistungs-Photolackausrüstung für die Photolithographie in der Mikroelektronikindustrie. Das System besteht aus einem Beleuchtungs-Subsystem, einem Masken-Subsystem und einem Resistbeschichtungs- und Entwicklungskopf. Das Beleuchtungs-Subsystem verwendet zwei F2 Excimer-Laserquellen, die Energie bis zu 550mJ/ cm2, Frequenz bis zu 400kHZ und Spotgröße bis zu 3um für die frontseitige Beleuchtung liefern. Das Beleuchtungs-Subsystem umfasst auch eine variable Lücke Laserzelle, Laser-Netzteile, und eine Blende. Das Maskensubsystem verfügt über einen automatisierten Vakuummaskenwechsler und einen automatisierten Quarzmaskenaufnehmer. Der Belichter ermöglicht mehrere Beleuchtungswinkel und Belichtungszeiten, sowohl in hellen als auch in dunklen Feldern. Der Resistbeschichtungskopf ist so konzipiert, dass er eine überlegene Gleichmäßigkeit über einen Wafer gewährleistet. Es ist in der Lage, bis zu 300mm Teile mit dicken Folien sowie dünnen Folien mit gleicher Genauigkeit und Präzision zu beschichten. Die Resistbeschichtung verwendet ein magnetbetätigtes automatisiertes Ventil, das für jeden Schritt des Beschichtungsprozesses präzise Durchflussmenge, Druck und Temperatur liefert. Der Entwicklungsleiter von 6000 verfügt über einen auf Quadrupol basierenden Zerstäuber, der gleichmäßige Entwicklungszeiten über alle Teile des Wafers ermöglicht. Der Zerstäuber sprüht lösungsmittelbasierte Ätzmedien auf die Resistoberfläche und ermöglicht fortgeschrittene Resistentfernungstechniken wie das stereotaktische Ätzen. Insgesamt ist CONVAC 6000 eine zuverlässige und kompakte Photolithographie-Maschine, die sich ideal für die hochpräzise Produktion eignet und einen maximalen Durchsatz ermöglicht. Seine automatisierte Maskenhandhabung, seine variablen Beleuchtungswinkel und seine präzise Widerstandsabscheidung machen es ideal für kontinuierlich hohe Produktivität im mikroelektronischen Design.