Gebraucht CONVAC CBA-3–3 M-2000 #9016683 zu verkaufen

CONVAC CBA-3-3 M-2000 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zur Erzielung präziser Lithographiemuster auf Halbleiter- und Mikroelektronikbauelementen verwendet wird. Es wird verwendet, um eine Vielzahl von Musteranwendungen wie Probenahme, Maskierung, Ätzen und Bedrucken zu erleichtern. Primärkomponente des Photoresistsystems ist die konforme Pumpe, die zur Verwendung einer Flüssigkeit oder eines Gasgemisches zur Erzeugung eines kontrastreichen Bildes auf der Oberfläche eines Werkstücks ausgelegt ist. Die Pumpe selbst ist in der Lage, verschiedene Dicken von Photolack aufzubringen, die von 20 bis 500 nm dick sind, unabhängig von der Substratform. Die Pumpe ist auch in der Lage, eine gleichmäßige Abdeckung von so eng wie 5 μ m bis so breit wie 1 mm zu erreichen, so dass sie für eine Vielzahl von Lithographieanwendungen geeignet ist. Der Benutzer kann die eingestellten Parameter der konformen Pumpe ändern, um verschiedene Photolackmuster zu erzeugen. Dies wird durch Einstellung der Belichtungszeit und -dicke sowie der Art des Resists erreicht. Nach dem Aufbringen des Photolacks wird die Fotomaske beleuchtet und die belichteten Bereiche des Photolacks entwickelt. Hierdurch wird der Photolack in diesen Bereichen entfernt, was das Substrat weiter unten offenbart. Der verbleibende Photolack kann dann entfernt und durch ein neu erzeugtes Material ersetzt werden. Darüber hinaus verfügt CONVAC CBA-3-3 M-2000 Photolackeinheit über zahlreiche Sicherheitsfunktionen, wie automatische Abschaltungen und automatische Alarme, um den Benutzer zu warnen, wenn Parameter außerhalb des Betriebsbereichs geändert wurden. Es ist auch in der Lage, bestimmte Echtzeit-Überwachung, so dass Benutzer überprüfen und anpassen Verarbeitungsparameter nach Bedarf. Dies sorgt für eine optimale Wiederholbarkeit und Konsistenz zwischen den Anwendungen. Insgesamt bietet CONVAC CBA-3-3 M-2000 Photolackmaschine Anwendern ein zuverlässiges und genaues Mittel, um komplexe Lithographiemuster zu erreichen. Es bietet Präzisionskontrolle über die Anwendung von Photoresist, so dass Benutzer Muster an ihre genauen Anforderungen anpassen können. Schließlich sorgen die verbesserten Sicherheitsmerkmale dafür, dass die Benutzer stets über ihre Betriebsparameter informiert bleiben und sie bei Bedarf anpassen können.