Gebraucht CONVAC CBA-M-2000-U #9152187 zu verkaufen

CONVAC CBA-M-2000-U ist eine vielseitige Photoresist-Ausrüstung für eine breite Palette von Substratverarbeitung. Es ist in der Lage, Lithographie, chemische Ätz- und Sputterverfahren auf einer Vielzahl von Wafersubstraten, einschließlich Glas und Polyimid. Das System ist ein optisches Lithographiewerkzeug, das mittels Projektionsbelichtungsoptik Strahlung auf ein Substrat mittels einer Maske oder Photomaske projiziert, die Muster zum lithographischen Ätzen eines bestimmten Bereichs des Wafers enthält. Die Einheit verwendet eine linear fokussierte Projektionslinse, um Photonen auf ein Substrat zu fokussieren und ein Muster über einen bestimmten Bereich zu erzeugen. Das Objektiv hat eine einstellbare numerische Apertur (NA) von 0,43 und ist für die Abbildung von Substraten in einem breiten Bereich von Größen von 5,7 mm bis 500 mm ausgelegt. Die Linse kann eingestellt werden, um unterschiedliche Belichtungswellenlängen, einschließlich sichtbarer und ultravioletter Lichtquellen, aufzunehmen. Das Objektiv kann auch für die Arbeit mit 4- oder 6-Zoll-Wafern konfiguriert werden. Für die Strukturierung des Wafers ermöglicht es die Software der Maschine Anwendern, Photomasken zu entwerfen, die die Zielregionen für lithographische und Ätzprozesse angeben, sowie die Belichtungsenergie und Dosis einzustellen. Das Werkzeug verfügt über eine High-End-Präzisionsausrichtung mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von 0,5 Mikron, wodurch es für Anwendungen mit hoher Toleranz geeignet ist. Die Neigung und Drehung des Wafers kann auch manuell angepasst werden, um eine optimale Leistung der Optik zu gewährleisten. Die Belichtungsstufe des Modells sorgt für konsistente Genauigkeit und Wiederholbarkeit und ermöglicht eine exakte Positionierung des Wafers in Bezug auf seinen ursprünglichen Referenzpunkt. Die Ausrüstung bietet eingebaute chemische Ätzfunktionen, die eine Vielzahl von Sputter- und Lithographietechniken ermöglichen. Das System enthält eine wählbare Sputterleistung von bis zu 10 kW, und die Sputterzeit kann auf die Substratgröße und die gewünschten Ergebnisse eingestellt werden. Darüber hinaus ermöglicht die Einheit die Laminierung der Substrate mit Schutzfolien, wie z.B. Resistmaterialien. Insgesamt ist CBA-M-2000-U eine hochentwickelte Photolackmaschine, die in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden kann. Seine langlebigen und robusten Eigenschaften, kombiniert mit seiner einfachen Einrichtung, machen es zu einer idealen Wahl für Benutzer, die die hochpräzise Photolithographie nutzen möchten.