Gebraucht CONVAC CEA-M-2000 #293747949 zu verkaufen
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CONVAC CEA-M-2000 Photoresist Equipment ist ein hochleistungsfähiges, multifunktionales, mehrschichtiges photochemisches Produktionssystem, das entwickelt wurde, um Photoresists zu erzeugen und zu verarbeiten. Photoresists werden bei der Herstellung von Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementen und integrierten Schaltungen eingesetzt und CEA-M-2000 wurde speziell entwickelt, um einstufige Lithographie- und Ätzprozesse für tiefe ultraviolette und extreme ultraviolette Backend-Anwendungen anzubieten. Es verfügt über einen kompakten und modularen Aufbau mit einem horizontalen Fördermechanismus und großen Kapazitäten für die Handhabung von Substraten. CONVAC CEA-M-2000 ist in der Lage, Fotoresistenzen mit verschiedenen Materialien wie Polysilizium, Siliziumdioxid und polykristallinem Diamant herzustellen und zu verarbeiten. Sein modulares Design bietet eine breite Palette von Belichtungsmöglichkeiten, einschließlich Projektion, Kontakt- oder Näherungsdruck und digitale Belichtung. Das Gerät sorgt zudem für eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Auflösung aufgrund seiner funktionsreichen Photoresist-Entwicklungs-, Nachbearbeitungs- und Steuerungssysteme. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer einzigartigen DC-Servoscanner-Plattform zur Mask-zu-Wafer-Ausrichtung in der Lage. Darüber hinaus bietet das Tool eine Vielzahl von Funktionen zur Kostensenkung und Prozessoptimierung. Es bietet ein intelligentes Planarisierungs-Asset zum Ätzen, mit dem Benutzer die Ätzparameter optimieren können, um ein gewünschtes Ätzprofil zu erzielen. Darüber hinaus verfügt es über eine modernste Trockenätztechnik, die es Anwendern ermöglicht, Kosten zu senken und Ätzzeiten zu reduzieren. Das Modell bietet auch eine Wafer-Gleichmäßigkeits-Scan-Ausrüstung, die die genaue Menge an Ätz- und Belichtungsfläche auf jedem Wafer messen kann. CEA-M-2000 Photolacksystem ist auf die Anforderungen der modernen Halbleiter- und Optoelektronikindustrie ausgelegt. Mit seinen Hochleistungskomponenten und der automatisierten Photolackverarbeitung bringt es Anwendern beispiellose Lithographie- und Ätzfähigkeiten für die Geräteherstellung. Diese Einheit hilft Benutzern, ihre Produktionskosten und -zeit zu reduzieren, um die Erträge zu erhöhen und den Durchsatz zu steigern. Die Maschine ist sehr zuverlässig und extrem robust, mit der Fähigkeit, robuste Arbeitsbedingungen und hohe Temperaturen zu tolerieren.
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