Gebraucht CRESSINGTON 108 Carbon/A #293656286 zu verkaufen

CRESSINGTON 108 Carbon/A Photoresist Equipment ist eine branchenführende Photolithographie-Technologie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Unter Verwendung eines CVD-Verfahrens (Organic Vapor Deposition) auf Kohlenstoffbasis ermöglicht das System eine präzise Kontrolle der Abscheidung eines Photoresistmaterials auf Kohlenstoffbasis auf einem Wafersubstrat. Dadurch wird eine hohe Gleichmäßigkeit hinsichtlich der Eigenschaften und Qualität des abgeschiedenen Photolacks erreicht. Die Einheit besteht aus einer automatisierten Abscheidekammer, einer Photoresist-Abgabekammer zum präzisen Aufbringen des Photoresist-Materials und einer Photoresist-Entwicklungskammer zur Nachabscheidehärtung. Die Maschine ist in der Lage, Photoresists in einer Dicke von 0,5 µm bis 200 µm mit einer Gleichmäßigkeit von ± 0,5 µm und einer Prozessrate von 11-30 Wafern pro Stunde abzuscheiden. Das Werkzeug kann mit Standard-Photoresist-Chemikalien wie SU-8, AZ, ORM und HMDS verwendet werden und kann für spezifische Photoresist-Anwendungen wie Metall- oder dielektrische Beschichtung, mehrschichtige Ätzmaskierung und rückseitige Lithographie optimiert werden. Der Temperaturbereich in der Abscheidekammer liegt zwischen 25-185 ° C und es kann bei niedrigeren Prozesstemperaturen für kritische Ätzprozesse ein vakuumstabiles bis 0,1 Torr erreicht werden. Das Asset bietet eine Vielzahl von Funktionen zur Verbesserung der Leistung des Photoresist-Anwendungsprozesses, einschließlich eines automatisierten Dispense-Flow-Kalibriermodells zur präzisen Steuerung und eines integrierten Datenloggers, der alle Prozessparameter aufzeichnet. Darüber hinaus umfasst das Gerät ein internes Diagnosesystem, um einen fehlerhaften Betrieb während der Photolackabscheidung zu erkennen. Die Photolackeinheit CRESSINGTON 108 Carbon/A ist vielseitig und zuverlässig und kann hochpräzise Photolackschichten mit hoher Gleichmäßigkeit für eine Vielzahl kritischer Halbleiteranwendungen herstellen. Mit der integrierten Automatisierung, fortschrittlichen Diagnose- und Überwachungsfunktionen sowie der Steuerung von Prozessparametern ist die Maschine eine ideale Wahl für branchenführende Photolithographie-Prozesse.