Gebraucht CSE S-470 #9409615 zu verkaufen

CSE S-470 ist ein positives Photolacksystem, das speziell für UV-Belichtungsanwendungen entwickelt wurde. Sie besteht aus einer polymeren Komponente mit einem proprietären Harzsatz und Photoinitiatoren, die die aktive Komponente des Photolacks bilden. In Gegenwart von UV-Licht erfährt diese Komponente eine photochemische Reaktion, die zur Bildung eines dünnen Polymerfilms führt. Der durch das Photoresist-System erzeugte dünne Polymerfilm bietet eine undefinierte und gleichmäßige Oberfläche, die für die Bilderzeugung geeignet ist, sowie eine Barriere zum Schutz des darunter liegenden Substrats vor Verunreinigungen. Dadurch ist es in der Lage, extrem präzise, hochauflösende Bilder für viele Arten von Anwendungen zu erzeugen. Der Photolack ist hochempfindlich gegenüber UV-Licht, was eine schnelle Belichtungszeit und eine erhöhte Auflösung für das resultierende Bild ermöglicht. Darüber hinaus ist S-470 extrem robust und widerstandsfähig gegen Abrieb, extreme Temperaturen und raue Chemikalien. Dies macht es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen wie Elektronikproduktion, optische und medizinische Geräteherstellung und Leiterplattenlithographie. CSE- S-470 ist auch in der Lage, komplexe Bilder wie erhöhte Buchstaben oder komplizierte Muster genau zu reproduzieren und zu übertragen. Dies liegt daran, dass das Substrat leicht manipuliert und geformt werden kann, ohne dass sich der Photoresistfilm oder das belichtete darunter liegende Substrat wesentlich verändern. Zusätzlich kann der Photolack einfach und effektiv von jedem Substrat abgezogen werden, sobald er nicht mehr benötigt wird. Insgesamt ist S-470 eine ausgezeichnete Wahl für viele UV-Belichtungsanwendungen. Es ist einfach zu bedienen, robust und beständig gegen eine Vielzahl von Umweltbedingungen. Darüber hinaus ist es aufgrund seiner überlegenen Empfindlichkeit und Auflösung ideal für komplexe Bilder und lithografische Anwendungen.