Gebraucht CYBOR 05026-00CL B #86310 zu verkaufen

CYBOR 05026-00CL B
ID: 86310
Pump and accessories Pump controller model no.: 00505-05 Power supply model no.: 512-05 Cable sets for the above units.
CYBOR 05026-00CL B Photoresist Equipment ist ein modernes Lithographiesystem von Canon, das für eine Reihe von Anwendungen wie Photomaske, Silizium-Wafer, MEMS und andere elektronische Geräteproduktion verwendet wird. Das Gerät ist in modularer Bauweise konstruiert, wodurch es flexibel und für ein breites Einsatzspektrum geeignet ist. Die Maschine verfügt über eine verstellbare 5-Achsen-Ausrichtung und eine motorisierte Bühne, die eine präzise Platzierung von Fotolackfilmen und Substraten ermöglicht. Die motorisierte Stufe bietet eine genaue und wiederholbare Auflösung von bis zu 0,1 μ m und bietet dem Werkzeug eine Kante über manuelle Positioniersysteme. CYBOR Asset kann Substrate auf einer Fläche von 9,3 cm x 9,3 cm genau positionieren. Dies macht das Modell zu einer idealen Wahl für fortgeschrittene Anwendungen wie über die Produktion, die fortschrittliche Produktion von Logikgeräten, die Produktion von Nanodecvice und MEMS-Geräte. Das Gerät eignet sich für die Verarbeitung unterschiedlichster Fotolackfilme, von dünnen Filmen bis zu dicken Filmen. Darüber hinaus verfügt das CYBOR-System über fortschrittliche Expositionsparameter, die eine genaue Kontrolle der Expositionsdosis und der Expositionszeit ermöglichen. Dies hilft, die Präzision und Genauigkeit des Photolacksubstrats zu gewährleisten. Das Gerät bietet auch die Möglichkeit, Daten aufzuzeichnen und die Ergebnisse jeder Exposition zu analysieren. 05026-00CL Photolackmaschine B ist für anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen konzipiert. Es ist sehr zuverlässig, genau und kostengünstig. Das innovative, motorisierte Bühnen- und Hochgeschwindigkeits-Belichtungswerkzeug bietet eine präzise und wiederholbare Lösung für unterschiedlichste Produktionsanforderungen. Diese Ressource bietet maximale Flexibilität und ermöglicht die Herstellung einer Vielzahl von Substraten, von dünnen Schichten bis zu dicken Folien, durch hochpräzise Belichtungsparameter und erweiterte Ausrichtungsoptionen. CYBOR Photoresist Modell bietet die höchste Qualität der Photolithographie für große Produktionsanforderungen.
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