Gebraucht DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D #9132940 zu verkaufen

DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche Technologie, die entwickelt wurde, um einen spezialisierten Fotolack auf Substrate aufzubringen. Photoresists sind dünne Filme, die zum Schutz oder zur Übertragung eines Musters auf einem Substrat, wie einer Leiterplatte, während des Herstellungsprozesses verwendet werden. Die Dan-Takuma Systems SCH-2003BEW-S-D verwendet eines der fortschrittlichsten und zuverlässigsten Photolacksysteme, um eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Verarbeitung zu gewährleisten. Diese Maschine verfügt über ein vollständig geschlossenes aktives Konvektionssystem. Das Innere der Maschine ist mit ultravioletter Strahlung ausgekleidet, um sicherzustellen, dass der Photolack gleichmäßig dispergiert ist. DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D bietet durch die Auskleidung der gesamten internen Einheit mit ultraviolettem Licht den größten Schutz für kritische Komponenten und erspart gleichzeitig potenziell gefährliche Chemikalien und Lösungsmittel. SCH-2003BEW-S-D Maschine verwendet zwei Arten von vorinstallierten Fotoresists, um die umfassendste Abdeckung zu bieten. Der erste Typ ist ein Photoresist auf Epoxidbasis, der während des physikalischen Bauprozesses in die Platte eingebaut wird. Der zweite Photolacktyp ist ein hochauflösender Photolack, der speziell für DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um die genaueste und detaillierteste Fotolackabdeckung zur Verfügung zu stellen. Das gesamte Werkzeug ist computergesteuert und programmiert, um den gesamten Prozess zu verwalten. Der Computer überwacht den gesamten Prozess von der Vorbehandlung bis zur Aushärtung, sodass Benutzer die genauen Parameter für jede Stufe festlegen können. Der Computer warnt auch Benutzer auf alle Nutzungsanomalien, die dem Asset Schaden zufügen könnten. Der Computer kann auch mit einer optionalen integrierten SPS (Programmable Logic Controller) verbunden werden, die eine Fernüberwachung und -steuerung des Geräts ermöglicht. Diese Funktion ermöglicht die Remote-Fehlerbehebung SCH-2003BEW-S-D Modells, wodurch Ausflüge zur Anlage entfallen. DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche Technologie, die eine möglichst zuverlässige und konsistente Abdeckung ermöglicht. Das geschlossene aktive Konvektionssystem, der computergesteuerte Prozess und die optionale SPS machen es zur perfekten Wahl für jedes Substrat, das einen präzisen und zuverlässigen Fotolackfilm benötigt.